[发明专利]用于连续供给先驱物的方法和设备有效
申请号: | 201580021576.9 | 申请日: | 2015-04-17 |
公开(公告)号: | CN106232866B | 公开(公告)日: | 2018-12-25 |
发明(设计)人: | 沃尔特·米尔豪瑟;米夏埃尔·施特拉克 | 申请(专利权)人: | 蒂森克虏伯钢铁欧洲股份公司;蒂森克虏伯股份公司 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448;C23C16/455;B01D1/00 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 张天舒;张杰 |
地址: | 德国杜*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及一种用于将至少一种先驱物输送至涂层设备的多个涂层模块的方法和一种相应的涂层设备、特别是等离子体涂层设备。本发明的目的在于,提出一种用于涂层的方法和用于涂层的简单的设备,通过该方法或该设备可以以相同的先驱物液位连续地向多个涂层模块提供先驱物并且确保连续的涂层操作运行,该目的通过根据权利要求1的方法得以实现。 | ||
搜索关键词: | 用于 连续 供给 先驱 方法 设备 | ||
【主权项】:
1.一种用于将至少一种先驱物输送至涂层设备的多个涂层模块的方法,其中,所述涂层模块具有至少一个提取装置和至少一个局部构造为升液管的输入管,通过所述输入管将所述先驱物输送至所述涂层模块的提取装置,其特征在于,将先驱物从存储容器通过环形管输送给至少一个提取装置,在环形管中将比所需更大的先驱物量输送给所述至少一个提取装置并且将过量的先驱物输送回所述存储容器中,其中,在先驱物在环形管中的回流过程中在单个提取装置的每个与环形管连接的输入管中产生静液压。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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