[发明专利]X射线干涉成像系统

摘要

本发明公开了一种x射线干涉成像系统，其中所述x射线源包括靶，所述靶具有嵌入于导热基板中的多个结构化相干的x射线子源。所述系统另外包括：形成Talbot干涉图案的射束分裂光栅G1，所述射束分裂光栅G1可以是相移光栅；以及用于将二维x射线强度转换成电子信号的x射线检测器。所述系统还可包括：第二分析器光栅G2，所述第二分析器光栅G2可以放置在所述检测器的前面以形成附加干涉条纹；用于使所述第二光栅G2相对于所述检测器平移的装置。所述系统可另外包括防散射网格，用于减少来自散射的x射线的信号。还公开了暗场和亮场检测器的各种配置。

主权项

一种x射线干涉成像系统，包括：x射线源，所述x射线源包括：真空室；用于电子束的发射器；以及电子靶，所述电子靶包括：基板，所述基板包括第一材料，及嵌入于所述基板中的至少多个离散结构，所述至少多个离散结构包括根据其x射线产生性质而选择的第二材料，并且其中所述多个离散结构布置在子源的周期性图案内；射束分裂x射线光栅，所述射束分裂x射线光栅包括形成x射线相移光栅的周期性结构，所述射束分裂x射线光栅被定位成用于衍射由所述x射线子源产生的x射线；x射线检测器，所述x射线检测器包括二维阵列的x射线检测元件，所述x射线检测器被定位成用于检测由所述射束分裂光栅衍射的x射线；以及防散射网格，所述防散射网格具有周期性阵列的隔板，所述隔板包含x射线吸收材料，所述防散射网格被定位在所述射束分裂x射线光栅与所述检测器之间。