[发明专利]图案化和制作用于三维基底的掩模的方法在审
| 申请号： | 201580022116.8 | 申请日： | 2015-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN106255586A | 公开（公告）日： | 2016-12-21 |
| 发明（设计）人： | P.潘多吉劳-森科吉劳;J.D.里亚尔;A.托纳;J.米勒 | 申请（专利权）人： | 庄臣及庄臣视力保护公司 |
| 主分类号： | B29D11/00 | 分类号： | B29D11/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人： | 徐予红;姜甜 |
| 地址： | 美国佛罗*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了一种制作用于图案化三维基底的掩模的方法。芯轴包括在表面中加工的成形件，该成形件对应于所述基底的形状；将一层材料沉积到成形件的第一区域中，并将金属层沉积到成形件的第二区域中。随后去除芯轴的部分。本发明还提供了一种利用掩模对三维基底进行图案化的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 制作 用于 三维 基底 方法 | ||
【主权项】：
一种制作用于使三维基底图案化的掩模的方法，包括：提供芯轴，所述芯轴包括在其表面中加工的成形件，所述成形件对应于所述三维基底的形状；将镀覆层沉积到所述成形件的第一区域中；将金属层沉积到所述成形件的第二区域中，其中所述第二区域不同于所述第一区域；以及移除所述第一区域中的所述镀覆层下方和所述第二区域中的所述金属层下方的所述芯轴的部分。
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