[发明专利]漫反射构造体、具备该漫反射构造体的面发光装置在审
| 申请号： | 201580022582.6 | 申请日： | 2015-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN106255854A | 公开（公告）日： | 2016-12-21 |
| 发明（设计）人： | 奥田满;篠原正幸;田上靖宏 | 申请（专利权）人： | 欧姆龙株式会社 |
| 主分类号： | F21V7/00 | 分类号： | F21V7/00;F21V7/04;F21V33/00;F21Y115/10 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人： | 李辉;邓毅 |
| 地址： | 日本国京都*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的漫反射构造体(41)具备：在内侧面对从光源入射过来的直接光进行至少1次漫反射并出射间接光的多个通光孔(41a)、以及配置在光源光轴上并对来自光源的直接光进行漫反射来完成扩散的散射部(43)，散射部(43)朝光源侧突出配置。 | ||
| 搜索关键词： | 漫反射 构造 具备 发光 装置 | ||
【主权项】：
一种漫反射构造体，其特征在于：沿相对于光源的光轴大致正交的方向配设且对来自所述光源的直接光进行漫反射来导出间接光，并且具备：多个通光孔，在其内侧面对从所述光源入射的直接光进行至少1次漫反射，以出射包含被所述内侧面漫反射后的光的所述间接光；以及散射部，其配置在所述光轴上并对来自所述光源的直接光进行漫反射来完成散射，所述散射部朝所述光源侧突出配置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于欧姆龙株式会社，未经欧姆龙株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201580022582.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
