[发明专利]阻气性层压体在审
| 申请号： | 201580022635.4 | 申请日： | 2015-03-02 |
| 公开（公告）号： | CN106255591A | 公开（公告）日： | 2016-12-21 |
| 发明（设计）人： | 南乡瞬也;小赋雄介;奥山真平;川原成 | 申请（专利权）人： | 东洋制罐集团控股株式会社 |
| 主分类号： | B32B9/00 | 分类号： | B32B9/00;C23C16/40;C23C16/44 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 此阻气性层压体(10)的特征在于，使用原子层沉积法在无机氧化物层(3)上形成极薄的金属氧化物膜(ALD膜)(5)，所述无机氧化物层(3)由含有Si或Al的金属氧化物或金属氮氧化物形成，所述无机氧化物层(3)的厚度d1与所述ALD膜(5)的厚度d2之比(d1/d2)为3至50。该阻气性层压体(10)不仅具有高的阻气性，还有优异的生产性。 | ||
| 搜索关键词： | 气性 层压 | ||
【主权项】：
一种阻气性层压体，其具有通过原子层沉积法形成于无机氧化物层上的极薄的金属氧化物膜，所述无机氧化物层由至少含有Si或Al的金属氧化物或金属氮氧化物形成，且所述无机氧化物层的厚度d1与所述极薄的金属氧化物膜的厚度d2之比d1/d2为3至50。
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