[发明专利]光刻设备及器件制造方法有效
| 申请号： | 201580023034.5 | 申请日： | 2015-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN106415395B | 公开（公告）日： | 2018-06-22 |
| 发明（设计）人： | G·A·H·F·詹森;M·范巴伦 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/67 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王静 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种与光刻设备一起使用的系统，所述系统被配置用于处理衬底，其中所述系统适于连接至气体源(30)，所述系统包括：衬底通过的空间(105)；和用于将所述空间与源于所述空间外部的热负载热绝缘的热屏蔽件(110)，所述热屏蔽件包括：第一壁(1100)和第二壁(1200)且在所述第一壁和第二壁之间具有间隙(1300)，所述第一壁定位在所述空间与所述第二壁之间；至少一个入口开口(1400)，所述至少一个入口开口被配置用于允许来自所述气体源的气体流(212)从所述空间的外部进入所述间隙；和至少一个出口开口(1500)，所述至少一个出口开口被配置用于允许气体流离开所述间隙至所述空间的外部，其中所述系统适于引导来自所述气体源的气体流，使所述气体流通过所述至少一个入口开口进入所述间隙、流动通过所述间隙并且通过至少一个出口开口流出所述间隙至所述空间外部，从而减少由于源于所述空间外部的热负载而引起的所述空间中的热波动。 | ||
| 搜索关键词： | 所述空间 气体流 出口开口 入口开口 第二壁 第一壁 气体源 外部 光刻设备 热屏蔽件 热负载 衬底 配置 器件制造 热波动 热绝缘 流出 流动 | ||
【主权项】：
1.一种用在光刻设备的衬底加载器中的系统，所述系统被配置用于处理衬底，所述处理包括以下各项中的至少一项：将所述衬底加载到光刻投影设备中和/或将所述衬底从光刻投影设备中卸载，其中所述系统适于连接至气体源，所述系统包括：衬底通过的空间；和用于将所述空间与源于所述空间外部的热负载热绝缘的热屏蔽件，所述热屏蔽件包括：第一壁和第二壁，且在所述第一壁和第二壁之间具有间隙，所述第一壁定位在所述空间与所述第二壁之间；至少一个入口开口，所述至少一个入口开口由所述第一壁和第二壁限定并且被配置用于允许来自所述气体源的气体流从所述空间的外部进入所述间隙；和至少一个出口开口，所述至少一个出口开口由所述第一壁和第二壁限定并且被配置用于允许气体流离开所述间隙至所述空间的外部，其中所述系统适于引导来自所述气体源的气体流，使所述气体流通过所述至少一个入口开口进入所述间隙、流动通过所述间隙并且通过至少一个出口开口流出所述间隙至所述空间外部，从而减少由于源于所述空间外部的热负载而引起的所述空间中的热波动。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201580023034.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
