[发明专利]用于成像设备的自动防眩光曝光的方法、系统、机器可读介质及计算设备有效
| 申请号： | 201580023496.7 | 申请日： | 2015-04-17 |
| 公开（公告）号： | CN106464800B | 公开（公告）日： | 2019-08-06 |
| 发明（设计）人： | T·凯库玛 | 申请（专利权）人： | 英特尔公司 |
| 主分类号： | H04N5/232 | 分类号： | H04N5/232 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 高见 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 讨论了涉及用于成像设备的防眩光曝光并且具体地用于当在所述成像设备与所述曝光的兴趣目标之间检测到闪光反射表面时禁用闪光灯的曝光的技术。这类技术可以包括：基于至所述兴趣目标的自动聚焦距离与至所述闪光反射表面的估计距离的比较确定闪光反射表面在所述成像设备与所述兴趣目标之间，并且基于所述确定来禁用所述闪光灯。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 成像 设备 自动 眩光 曝光 | ||
【主权项】：
1.一种用于为成像设备提供防眩光曝光的方法，所述方法包括：确定至兴趣目标的自动聚焦距离；估计至闪光反射表面的距离；基于所述自动聚焦距离与至所述闪光反射表面的所述距离的比较，确定所述闪光反射表面是否在所述成像设备与所述兴趣目标之间；以及基于确定了所述闪光反射表面在所述成像设备与所述兴趣目标之间而在所述兴趣目标的曝光期间禁用所述成像设备的闪光灯。
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