[发明专利]载置台及等离子体处理装置有效

专利信息
申请号: 201580024261.X 申请日: 2015-06-01
公开(公告)号: CN106463446B 公开(公告)日: 2019-08-13
发明(设计)人: 喜多川大;小泉克之;永井力;林大辅;照内怜 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683;H01L21/3065
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 高迪
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种载置台及等离子体处理装置。本发明的一实施方式的载置台具备支承部件及基座。支承部件具有:载置区域,具有加热器;及外周区域,围绕载置区域。基座具有:第1区域,在其上支承载置区域;及第2区域,围绕第1区域。第2区域中设有贯穿孔。电连接于加热器的配线穿过第2区域的贯穿孔。
搜索关键词: 载置台 等离子体 处理 装置
【主权项】:
1.一种载置台,具备:支承部件;基座;多个配线;及其他配线,所述支承部件用于支承被处理体,且包含:陶瓷制的主体部,具有用于载置所述被处理体的载置区域、及围绕该载置区域的外周区域;一个以上的加热器,设置于所述主体部内;一个以上的第1配线层,在所述主体部内延伸,且分别电连接于所述一个以上的加热器的供电侧;一个以上的第2配线层,在所述主体部内延伸,且电连接于所述一个以上的加热器的基准电位侧;多个接点部,在所述外周区域从所述主体部露出,且分别电连接于所述一个以上的第1配线层及所述一个以上的第2配线层;静电吸附用电极,设置在所述主体部内;第3配线层,电连接于该静电吸附用电极,且设置在所述主体部内;及其它接点部,电连接于该第3配线层,且在所述外周区域从所述主体部露出,所述基座支承所述支承部件,且具有将所述载置区域支承在其上的第1区域、及将所述外周区域支承在其上的第2区域,并且在该第2区域设有分别通往所述多个接点部的多个第1贯穿孔及通往所述其它接点部的第2贯穿孔,所述多个配线穿过所述多个第1贯穿孔而分别接合于所述多个接点部,所述其它配线穿过所述第2贯穿孔而接合于所述其它接点部,所述基座具有:导电性主部,提供所述第1区域及所述第2区域;第1绝缘部,以能够拆卸的方式安装于所述主部,并提供所述多个第1贯穿孔;及第2绝缘部,以能够拆卸的方式安装于所述主部,并提供所述第2贯穿孔,所述多个配线各自包含:具有一端及另一端的可挠性的第1引线;连结于该第1引线的一端并连结于所述多个接点部中对应的接点部的第1端子;及连结于所述第1引线的另一端的第2端子,并且划分该第1端子及该第1引线所穿过的第1贯穿孔的所述第1绝缘部的内面与该第1端子之间、以及该第1绝缘部的该内面与该第1引线之间存在空间,所述其它配线包含:具有一端及另一端的可挠性的第2引线;连结于该第2引线的一端并连结于所述其它接点部的第3端子;及连结于所述第2引线的另一端的第4端子,并且划分所述第2贯穿孔的所述第2绝缘部的内面与该第3端子之间、以及该第2绝缘部的该内面与该第2引线之间存在空间,所述载置台还具备筒状的绝缘部,以包围所述第3端子的方式存在于所述第3端子与所述第2绝缘部之间。
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