[发明专利]SOI基板的评估方法有效
申请号: | 201580024451.1 | 申请日: | 2015-02-25 |
公开(公告)号: | CN106415806B | 公开(公告)日: | 2019-06-04 |
发明(设计)人: | 大槻刚 | 申请(专利权)人: | 信越半导体株式会社 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;H01L21/02;H01L27/12 |
代理公司: | 北京京万通知识产权代理有限公司 11440 | 代理人: | 许天易 |
地址: | 日本东京都千*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及一种SOI基板的评估方法,包含:预先于测定用SOI基板形成装置,求取测定用SOI基板的界面态密度与施加高周波时漏功率的关系,或是将界面态密度换算为电阻而求取换算的电阻与该漏功率的关系;测定评估对象SOI基板的界面态密度而求取界面态密度,或是求取基于界面态密度所换算得出的电阻;以及借由测定评估对象SOI基板的界面态密度,基于预先求取界面态密度与漏功率的关系,评估评估对象SOI基板的漏功率,或是借由测定评估对象SOI基板的界面态密度所换算的电阻,基于预先求取电阻与漏功率的关系,评估评估对象SOI基板的漏功率。如此,不实际测定高周波特性,借由尽可能简单的方法评估适合高周波的基板。 | ||
搜索关键词: | soi 评估 方法 | ||
【主权项】:
1.一种SOI基板的评估方法,是用于对评估对象的SOI基板施加高周波时评估高周波特性的方法,包含下列步骤:于多个测定用SOI基板将装置予以形成而将该测定用SOI基板的界面态密度与施加高周波时的漏功率的关系予以预先求取,或是将该界面态密度换算为电阻而将该换算的电阻与该漏功率的关系予以预先求取;测定该评估对象SOI基板的界面态密度而求取界面态密度,或是求取基于该界面态密度所换算得出的电阻;以及自该经测定的该评估对象的SOI基板的该界面态密度,基于该预先求取的界面态密度与漏功率的关系,评估该评估对象的SOI基板的漏功率,或是自该经测定的该评估对象的SOI基板的该界面态密度所换算的电阻,基于该预先求取的电阻与漏功率的关系,评估该评估对象的SOI基板的漏功率。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造