[发明专利]交联共聚物和其制造方法在审
申请号: | 201580025282.3 | 申请日: | 2015-05-14 |
公开(公告)号: | CN106459327A | 公开(公告)日: | 2017-02-22 |
发明(设计)人: | 荒井亨;塚本步;佐佐木绘梨 | 申请(专利权)人: | 电化株式会社 |
主分类号: | C08F297/02 | 分类号: | C08F297/02;A61L29/00;A61L31/00;C08F4/6592;C08F6/08;C08F212/00 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 暂无信息 | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明的目的是提供一种减少残留催化剂成分,提高透明性或医疗材料适应性、抗黄变性的交联共聚物和其制造方法。根据本发明提供一种交联共聚物,该交联共聚物通过以下方式得到:作为配位聚合工序,使用单中心配位聚合催化剂来进行烯烃单体、芳香族乙烯基化合物单体和芳香族多烯的共聚,并合成烯烃‑芳香族乙烯基化合物‑芳香族多烯共聚物,接着作为阴离子聚合工序,在该烯烃‑芳香族乙烯基化合物‑芳香族多烯共聚物和芳香族乙烯基化合物单体的共存下,通过使用阴离子聚合引发剂聚合而得,包含在所述交联共聚物的残留催化剂成分即铝和锂的质量之和为200ppm以下。 | ||
搜索关键词: | 交联 共聚物 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种交联共聚物,其特征在于,通过配位聚合工序和阴离子聚合工序而得到,所述配位聚合工序中,使用单中心配位聚合催化剂来进行烯烃单体、芳香族乙烯基化合物单体和芳香族多烯的共聚,合成烯烃‑芳香族乙烯基化合物‑芳香族多烯共聚物,所述阴离子聚合工序中,在该烯烃‑芳香族乙烯基化合物‑芳香族多烯共聚物和芳香族乙烯基化合物单体的共存下,使用阴离子聚合引发剂进行聚合,包含在所述交联共聚物的作为残留催化剂成分的铝和锂的质量之和为200ppm以下。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于电化株式会社,未经电化株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201580025282.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:嵌段共聚物
- 下一篇:含有共聚物月桂烯嵌段的嵌段共聚物