[发明专利]集电体用金属箔、集电体及集电体用金属箔的制造方法有效
申请号: | 201580025706.6 | 申请日: | 2015-06-03 |
公开(公告)号: | CN106415903B | 公开(公告)日: | 2019-10-25 |
发明(设计)人: | 芦泽公一;本居徹也;小石川敦史;船户宁 | 申请(专利权)人: | 株式会社UACJ |
主分类号: | H01M4/70 | 分类号: | H01M4/70;H01M4/13;H01M4/64;H01M4/66;B21D33/00;B30B3/00;C25D7/00;H01G11/70;H01G11/86 |
代理公司: | 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 | 代理人: | 龚敏;王刚 |
地址: | 日本国东京都千*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及集电体用金属箔、集电体及集电体用金属箔的制造方法,集电体用金属箔(1)的至少一个表面被粗糙面化。在经粗糙面化的表面存在多个凹状部(4),所述凹状部(4)具有底面部(2)和包围底面部(2)且相较于底面部(2)隆起的边缘部(3)。凹状部(4)的弗雷特直径的平均Lave为0.5μm以上50μm以下。集电体用金属箔(1)适用作锂离子二次电池、钠二次电池、电双层电容器或锂离子电容器用的电极集电体。 | ||
搜索关键词: | 体用 金属 集电体 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种集电体用金属箔,其特征在于,其是至少一个表面被粗糙面化的集电体用金属箔、且其表面不具有活性物质,所述集电体用金属箔具有8~18μm的厚度,包含铜或铜合金,在所述被 粗糙面化的表面存在多个凹状部,所述凹状部具有底面部和边缘部,所述边缘部包围该底面部且相较于该底面部隆起,所述凹状部的弗雷特直径的平均Lave为0.5μm以上50μm以下,且90%以上的所述凹状部具有0.5~2.5μm的深度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社UACJ,未经株式会社UACJ许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201580025706.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。