[发明专利]利用双维恩过滤器单色器的电子束成像有效
| 申请号： | 201580026256.2 | 申请日： | 2015-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN106463322B | 公开（公告）日： | 2018-06-26 |
| 发明（设计）人： | 江欣荣;韩立群 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/05 | 分类号： | H01J37/05;H01J49/28 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 张世俊 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一个实施例涉及一种双威恩过滤器单色器。第一威恩过滤器使电子束聚焦于第一平面中，同时使所述电子束在第二平面中平行。狭缝开口允许所述电子束的具有在能量范围内的能量的电子通过，同时阻挡所述电子束的具有在所述能量范围之外的能量的电子。第二威恩过滤器使所述电子束聚焦以变得在所述第一平面中平行，同时使所述电子束在所述第二平面中平行。还揭示其它实施例、方面及特征。 | ||
| 搜索关键词： | 电子束 过滤器 平行 单色器 聚焦 电子束成像 狭缝开口 阻挡 | ||
【主权项】：
1.一种电子束成像设备，其包括：发射体源尖端，其发射电子；枪电子透镜，其使所述电子聚焦以形成电子束，所述电子束由于所述电子束具有平行的电子轨迹而为平行的；第一威恩过滤器，其使所述电子束聚焦于第一平面中，同时使所述电子束在第二平面中平行；狭缝孔隙的狭缝开口，其中所述狭缝开口具有在所述第一平面中的宽度及在所述第二平面中的长度，且其中所述宽度窄于所述长度；及第二威恩过滤器，其使所述电子束聚焦以变得在所述第一平面中平行，同时使所述电子束在所述第二平面中平行。
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