[发明专利]用于测量、表征和分析周期性结构的x射线方法有效
| 申请号： | 201580026529.3 | 申请日： | 2015-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN107076682B | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | 西尔维娅·贾·云·路易斯;云文兵;雅诺什·科瑞 | 申请（专利权）人： | 斯格瑞公司 |
| 主分类号： | G01N23/00 | 分类号： | G01N23/00;G01N23/041;G01N23/046;G01N23/083;G01N23/201;G01N23/203;G01N23/223;A61B6/00 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 宗晓斌 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | x射线照射的周期性空间图案用于收集关于周期性物体的信息。可以使用相干的或部分相干的x射线源与分束光栅的相互作用来创建具有周期性结构的Talbot干涉图案，以创建结构化照射。然后将要测量的具有周期性结构的物体放置到该结构化照射中，并且分析来自多个照射点的信号的集合以确定物体及其结构的各种性质。对于x射线吸收/透射、小角度x射线散射、x射线荧光、x射线反射和x射线衍射的应用都可以使用本发明的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 测量 表征 分析 周期性 结构 射线 方法 | ||
【主权项】：
一种用于检查具有周期性结构的物体的方法，包括：确定将在其中形成Talbot干涉图案的体积，所述Talbot干涉图案使用下述项形成：x射线源和x射线分束光栅；将具有周期性结构的物体放置到所述体积中；建立Talbot干涉图案；将所述物体的周期性结构与所述Talbot干涉图案的腹点对准；和检测由于下述项的相互作用而引起的x射线信号：Talbot干涉图案和所述物体的周期性结构。
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