[发明专利]基于来自光学检验及光学重检的缺陷属性的用于电子束重检的缺陷取样有效
| 申请号： | 201580026552.2 | 申请日： | 2015-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN106461581B | 公开（公告）日： | 2018-08-31 |
| 发明（设计）人： | R·戈莎尹;S·乔希 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/2251 | 分类号： | G01N23/2251;G01N21/95;H01L21/66 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 张世俊 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供用于产生缺陷样本用于电子束重检的各种实施例。一种方法包含逐缺陷地组合通过在其上检测到缺陷的晶片的光学检验确定的缺陷中的一或多个第一属性与通过所述晶片的光学重检确定的所述缺陷中的一或多个第二属性，借此产生所述缺陷的组合属性。所述方法还包含基于所述缺陷的所述组合属性将所述缺陷分离为级别。所述级别对应于不同缺陷分类。此外，所述方法包含基于所述缺陷已被分离为的所述级别对所述缺陷中的一或多者取样用于所述电子束重检，借此产生缺陷重检样本用于所述电子束重检。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 来自 光学 检验 缺陷 属性 用于 电子束 取样 | ||
【主权项】：
1.一种经配置以产生缺陷样本用于电子束重检的系统，其包括：光学检验子系统，其经配置以检测晶片上的缺陷；光学重检子系统，其经配置以重检由所述光学检验子系统在所述晶片上检测到的缺陷；电子束重检子系统，其经配置以重检由所述光学检验子系统在所述晶片上检测到的缺陷；及计算机子系统，其经配置以用于：逐缺陷地组合由所述光学检验子系统确定的所述缺陷中的一或多个第一属性与由所述光学重检子系统确定的所述缺陷中的一或多个第二属性，借此产生所述缺陷的组合属性，其中所述晶片是未图案化晶片；基于所述缺陷的所述组合属性将所述缺陷分离为级别，其中所述级别对应于不同缺陷分类；及基于所述缺陷已被分离为的所述级别对所述缺陷中的一或多者取样用于由所述电子束重检子系统执行的所述重检，借此产生缺陷样本用于由所述电子束重检子系统执行的所述重检。
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