[发明专利]用于改良的金属离子过滤的方法和设备

摘要

本发明提供用于改良的离子过滤的方法和设备的实施方式。在一些实施方式中，基板处理腔室包括：腔室主体和腔室盖，腔室盖安置在腔室主体上，界定腔室主体内于盖下方的处理区域；准直器，安置在处理区域中；电源，耦接至准直器；以及第一组磁体，所述第一组磁体在腔室主体周围安置在准直器上方，和第二组磁体，所述第二组磁体在腔室主体周围安置在准直器下方，所述两组磁体一起产生导引磁场，所述导引磁场大体上垂直于准直器。

主权项

一种基板处理腔室，包括：腔室主体和安置在所述腔室主体上的腔室盖，所述腔室盖在所述腔室主体内于所述盖之下界定处理区域；准直器，所述准直器安置在所述处理区域中；电源，所述电源耦接至所述准直器；和第一组磁体，所述第一组磁体在所述腔室主体周围安置在所述准直器上方，和一第二组磁体，所述第二组磁体在所述腔室主体周围安置在所述准直器下方，所述第一组磁体与所述第二组磁体共同产生导引磁场，所述导引磁场大体上垂直于所述准直器。