[发明专利]用于制造合成金刚石材料的微波等离子体反应器以及制造合成金刚石材料的方法有效
申请号: | 201580027337.4 | 申请日: | 2015-06-10 |
公开(公告)号: | CN106661732B | 公开(公告)日: | 2019-03-19 |
发明(设计)人: | J·R·布兰登;I·福里尔;M·A·库珀;G·A·斯卡斯布鲁克;B·L·格林 | 申请(专利权)人: | 六号元素技术有限公司 |
主分类号: | C23C16/511 | 分类号: | C23C16/511;C23C16/513 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 王海宁 |
地址: | 英国*** | 国省代码: | 英国;GB |
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摘要: | 一种用于通过化学气相沉积制造合成金刚石材料的微波等离子体反应器,该微波等离子体反应器包含:等离子体腔室,所述等离子体腔室限定用以支持具有主微波谐振模式频率f的主微波谐振模式的谐振腔;多个微波源,所述多个微波源耦合至等离子体腔室以生成具有总微波功率PT的微波并将其供入等离子体腔室中;气体流动系统,所述气体流动系统用于将工艺气体供入等离子体腔室以及将它们从那里去除;和基底支座,所述基底支座设置在等离子体腔室中并且包含用于支持基底的支持表面,在使用中合成金刚石材料有待沉积在所述基底上,其中配置所述多个微波源以便以主微波谐振模式频率f将总微波功率PT的至少30%耦合到等离子体腔室中,并且其中所述多个微波源中的至少一些是固态微波源。 | ||
搜索关键词: | 用于 制造 合成 金刚石 材料 微波 等离子体 反应器 | ||
【主权项】:
1.一种用于通过化学气相沉积制造合成金刚石材料的微波等离子体反应器,该微波等离子体反应器包含:等离子体腔室,所述等离子体腔室限定出用以支持具有主微波谐振模式频率f的主微波谐振模式的谐振腔;多个微波源,所述多个微波源耦合至等离子体腔室以生成具有总微波功率PT的微波并将其供入所述等离子体腔室中;气体流动系统,所述气体流动系统用于将工艺气体供入所述等离子体腔室以及将它们从那里去除;和基底支座,所述基底支座设置在所述等离子体腔室中并且包含用于支持基底的支持表面,在使用中合成金刚石材料有待沉积在所述基底上,其中配置所述多个微波源以便以主微波谐振模式频率f将总微波功率PT的至少30%耦合到等离子体腔室中,并且其中所述多个微波源中的至少一些是固态微波源,其中主微波谐振模式频率f比896MHz低至少10%。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的