[发明专利]获得包含耐受高温处理的银‑基功能层的材料的方法在审
| 申请号： | 201580027531.2 | 申请日： | 2015-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN106458729A | 公开（公告）日： | 2017-02-22 |
| 发明（设计）人： | S.布罗萨尔 | 申请（专利权）人： | 法国圣戈班玻璃厂 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人： | 段家荣;黄念 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明涉及获得包含涂有薄层叠层的透明基底的材料的方法，所述薄层叠层包含至少一个位于至少一个抗反射涂层上方的银‑基功能金属层，涂有该叠层的透明基底意在经历在高于400℃的温度Tmax下的热处理，该抗反射涂层包含至少一个易于产生孔类型缺陷的介电层，该方法包含以下步骤的序列：在该透明基底上沉积包含至少一个易于产生孔类型缺陷的介电层的抗反射涂层，随后对易于产生孔类型缺陷的介电层施以热预处理，随后沉积所述至少一个银‑基功能金属层。 | ||
| 搜索关键词： | 获得 包含 耐受 高温 处理 功能 材料 方法 | ||
【主权项】：
获得包含涂有薄层叠层的透明基底的材料的方法，所述薄层叠层包含至少一个位于至少一个抗反射涂层上方的银‑基功能金属层，涂有所述叠层的透明基底意在施以在高于400℃的温度Tmax的热处理，该抗反射涂层包含至少一个能产生孔类型缺陷的介电层，该方法包含以下步骤的序列：‑在该透明基底上沉积包含至少一个能产生孔类型缺陷的介电层的抗反射涂层，能产生孔类型缺陷的介电层通过阴极溅射沉积，随后‑对能产生孔类型缺陷的介电层施以热预处理，随后‑沉积所述至少一个银‑基功能金属层。
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