[发明专利]自动配方稳定性监测及报告

摘要

本发明提供用于监测晶片检验配方随时间的稳定性的系统及方法。一种方法包含收集随时间的检验结果。所述检验结果是在不同时间点在晶片上执行所述晶片检验配方时由至少一个晶片检验工具所产生。所述方法还包含通过将在不同时间产生的所述检验结果彼此比较而识别所述检验结果中的异常变化。另外，所述方法包含确定所述异常变化是否可归因于所述晶片、所述晶片检验配方或所述至少一个晶片检验工具的一或多者，由此确定所述晶片检验配方是否随时间稳定。

主权项

1.一种用于监测晶片检验配方随时间的稳定性的计算机实施方法，其包括：收集随时间的检验结果，其中所述检验结果是在不同时间点在晶片上执行所述晶片检验配方时由至少一个晶片检验工具所产生，其中所述收集包括存储所述检验结果，所述检验结果具有用于识别晶片、所述晶片检验配方、所述至少一个晶片检验工具及对应于所述检验结果执行所述晶片检验配方的时间的信息，且其中收集所述检验结果进一步包括使光扫描遍及晶片，及响应于在所述扫描期间由所述至少一个晶片检验工具检测的来自所述晶片的光而产生输出；通过将在不同时间产生的所述检验结果彼此比较而识别所述检验结果中的异常变化，其中被比较的所述检验结果包括由用于所述晶片的所述至少一个晶片检验工具产生的一或多个图像的一或多个特性，且其中所述比较包括通过产生将所述检验结果的值展示作为时间的函数的趋势图以分析所述检验结果中的趋势，及监测所述趋势图的异常变化，所述异常变化被界定为在所述趋势图中的所述检验结果中的偏差值超过所述一或多个图像中的所述一或多个特性的预定可接受容许度；以及确定所述异常变化是否可归因于所述晶片、所述晶片检验配方或所述至少一个晶片检验工具中的一或多者，由此确定所述晶片检验配方是否随时间稳定，其中所述确定包括比较由所述至少一个晶片检验工具的同一者产生的针对所述晶片中的至少两者的检验结果，其中所述晶片中的所述至少两者包括采用不同制造过程处理的在不同层处的晶片，且其中所述收集、所述识别以及所述确定由计算机系统执行。