[发明专利]对象定位系统、控制系统、光刻设备、对象定位方法和器件制造方法有效
| 申请号： | 201580029069.X | 申请日： | 2015-05-01 |
| 公开（公告）号： | CN106462079B | 公开（公告）日： | 2019-08-09 |
| 发明（设计）人： | H·巴特勒;W·H·T·M·安格南特;N·迪尔克斯;R·卡米迪;W·F·J·西蒙斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及包括可移动对象、致动器系统和控制系统的对象定位系统。可移动对象相对于基准可移动。致动器系统被配置成在对象上的力施加位置处向对象施加力以便相对于基准移动可移动对象。控制系统被配置成相对于基准定位对象的兴趣点。控制系统被配置成基于表示力施加位置与兴趣点之间的空间关系的参数来驱动致动器系统。参数取决于表示对象相对于基准的位置的另外的参数。 | ||
| 搜索关键词： | 对象 定位 系统 控制系统 光刻 设备 方法 器件 制造 | ||
【主权项】：
1.一种对象定位系统，包括：可移动对象，相对于基准可移动；致动器系统，被配置成在所述对象上的力施加位置处向所述对象施加力以便相对于所述基准移动所述可移动对象；控制系统，被配置成相对于所述基准定位所述对象的兴趣点，其中所述控制系统被配置成基于表示所述力施加位置与所述兴趣点之间的空间关系的参数来驱动所述致动器系统，其中所述参数取决于表示所述对象相对于所述基准的位置的另外的参数。
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