[发明专利]患者接近性调制的比吸收率有效

专利信息
申请号: 201580029381.9 申请日: 2015-05-27
公开(公告)号: CN106456049B 公开(公告)日: 2022-01-04
发明(设计)人: P·R·哈维 申请(专利权)人: 皇家飞利浦有限公司
主分类号: A61B5/055 分类号: A61B5/055;G01R33/28;G01R33/58
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 王英;刘炳胜
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种关于调节要被施加到要被成像的感兴趣对象(20)的射频激励场B1来操作磁共振成像系统(10)的方法,所述方法包括以下步骤:确定至少一个位置参数(d),其指示所述感兴趣对象(20)的至少部分相对于所述磁共振成像系统(10)的至少一个射频发射天线(36)的位置;并且取决于出自所确定的至少一个位置参数(d)和确定的所述感兴趣对象(20)的几何尺寸(w)中的至少一个,调节要被馈送到所述至少一个射频发射天线(36)的射频功率的至少一个射频功率相关的参数;以及具有接近检测单元(46)的磁共振成像系统(10),其包括至少一个接近检测器(D),以及控制单元(26),其中,所述控制单元(26)被配置为执行这样的方法的步骤。
搜索关键词: 患者 接近 调制 吸收率
【主权项】:
一种关于调节要被施加到要被成像的感兴趣对象(20)射频激励场B1来操作磁共振成像系统(10)的方法,所述磁共振成像系统(10)被配置用于采集所述感兴趣对象(20)的至少部分的磁共振图像,所述方法包括以下步骤:‑确定至少一个位置参数(d),所述至少一个位置参数指示所述感兴趣对象(20)的至少所述部分相对于所述磁共振成像系统(10)的至少一个射频发射天线(36)的位置;并且‑取决于出自所述感兴趣对象(20)的所确定的至少一个位置参数(d)和确定的几何尺寸(w)中的至少一个,调节要被馈送到所述至少一个射频发射天线(36)的射频功率的至少一个射频功率相关的参数。
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