[发明专利]通过使用牺牲层获得涂覆有功能层的基底的方法在审
| 申请号： | 201580030119.6 | 申请日： | 2015-06-02 |
| 公开（公告）号： | CN106414356A | 公开（公告）日： | 2017-02-15 |
| 发明（设计）人： | A.卡申科;B.尼姆;N.纳多;L.卡诺瓦;A.于尼亚尔 | 申请（专利权）人： | 法国圣戈班玻璃厂 |
| 主分类号： | C03C17/23 | 分类号： | C03C17/23;C03C17/25;C03C23/00;C23C14/58 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人： | 段家荣,黄念 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及获得包含基底的材料的方法，所述基底在其至少一个面的至少一部分上涂覆有至少一个功能层，所述方法包括‑ 沉积该或各功能层的步骤，随后‑ 在所述至少一个功能层上沉积牺牲层的步骤，随后‑ 通过选自激光辐射或来自至少一个闪光灯的辐射的辐射进行热处理的步骤，所述辐射具有至少一个200至2500纳米的处理波长，所述牺牲层在热处理步骤过程中与空气接触，随后‑ 使用溶剂除去该牺牲层的步骤,所述牺牲层是单层，并使得在热处理之前，其能够吸收至少一部分在至少一个处理波长处的所述辐射，并在热处理之后，其能够通过溶剂和/或分散在所述溶剂中来除去。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 使用 牺牲 获得 涂覆有 功能 基底 方法 | ||
【主权项】：
获得包含基底的材料的方法，所述基底在其至少一个面的至少一部分上涂覆有至少一个功能层，所述方法包括：‑ 沉积该功能层或各功能层的步骤，随后‑ 在所述至少一个功能层上沉积牺牲层的步骤，随后‑ 通过辐射进行热处理的步骤，所述辐射选自激光辐射或来自至少一个闪光灯的辐射，所述辐射具有至少一个200至2500纳米的处理波长，所述牺牲层在热处理步骤过程中与空气接触，随后‑ 使用溶剂除去该牺牲层的步骤,所述牺牲层是单层，并使得在热处理之前，其能够吸收至少一部分在至少一个处理波长处的所述辐射，并在热处理之后，其能够通过溶解和/或分散在所述溶剂中来除去。
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