[发明专利]光源装置和光源装置的控制方法有效
申请号: | 201580030534.1 | 申请日: | 2015-10-01 |
公开(公告)号: | CN106455960B | 公开(公告)日: | 2020-03-27 |
发明(设计)人: | 坂井爱子;矢部雄亮;高桥智也 | 申请(专利权)人: | 奥林巴斯株式会社 |
主分类号: | A61B1/06 | 分类号: | A61B1/06;A61B1/04;G02B23/26 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 光源装置(100)具有:半导体光源(131、132、133)、光源控制部(114)、光传感器(141、142、143)、传感器控制部(112)和强度调整部(115)。光源控制部(114)通过脉冲宽度调制来控制从所述半导体光源射出的光的每场的光量。光传感器(141、142、143)通过接收从所述半导体光源射出的光而取得受光量。传感器控制部(112)使所述光传感器在比所述脉冲宽度调制中的最小脉冲宽度短的曝光期间内进行检测,取得由所述光传感器取得的所述受光量。强度调整部(115)根据所述受光量,调整所述半导体光源的发光强度。 | ||
搜索关键词: | 光源 装置 控制 方法 | ||
【主权项】:
一种光源装置,该光源装置具有:半导体光源;光源控制部,其通过脉冲宽度调制来控制从所述半导体光源射出的光的每场的光量;光传感器,其通过接收从所述半导体光源射出的光而取得受光量;传感器控制部,其使所述光传感器在比所述脉冲宽度调制中的最小脉冲宽度短的曝光期间内进行检测,取得由所述光传感器取得的所述受光量;以及强度调整部,其根据所述受光量调整所述半导体光源的发光强度。
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