[发明专利]用于闪耀减少的光学叠堆有效

专利信息
申请号: 201580031009.1 申请日: 2015-06-03
公开(公告)号: CN106461827B 公开(公告)日: 2019-10-08
发明(设计)人: 布雷特·J·西特尔;马克·D·拉德克利夫;托马斯·R·小霍芬德;安德鲁·J·欧德科克;丹尼尔·W·亨嫩;刘兰虹 申请(专利权)人: 3M创新有限公司
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 顾红霞;张芸
地址: 美国明*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供一种光学叠堆,该光学叠堆包括在两个平面内维度上生成衍射的光栅结构。该光学叠堆可包括两个光栅,两个光栅可以是单向或双向的,或者可包括单个双向光栅。该光学叠堆包括被选择用于提供受控光漫射的颗粒。该光学叠堆适用于减少显示器中的闪耀。
搜索关键词: 用于 闪耀 减少 光学
【主权项】:
1.一种光学叠堆,包括第一层以及邻近所述第一层的第二层,其中所述第一层与所述第二层之间的接合部包括第一光栅,所述第一层具有折射率n1,所述第二层具有折射率n2,所述第一光栅具有峰到谷高度h,|n1‑n2|与h的乘积介于150nm和350nm之间,所述第一光栅具有在2微米至50微米范围内的第一节距,并且所述第一层或所述第二层或者所述第一层和所述第二层两者包括具有尺寸、折射率和数密度的多个颗粒使得当以具有532nm的波长的激光照射所述光学叠堆时,产生衍射图,所述衍射图包括:具有强度I0的中心衍射峰;与所述中心衍射峰相距距离d定位的最近相邻衍射峰;和强度分布,所述强度分布包括:所述中心衍射峰与所述最近相邻衍射峰之间中点处的强度Imid;与所述中心衍射峰相距距离2d的点处的强度I2d,Imid大于I0的0.01倍,并且I2d小于I0的0.001倍。
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