[发明专利]光刻设备及制造光刻设备的方法有效
| 申请号： | 201580031089.0 | 申请日： | 2015-05-07 |
| 公开（公告）号： | CN106462082B | 公开（公告）日： | 2018-05-18 |
| 发明（设计）人： | R·H·M·考蒂;C·W·J·贝德伦森;A·B·珍宁科;A·H·考沃埃特斯;J·V·奥沃卡姆普;S·A·特姆普;V·V·伟越;D·E·R·阿登纳特德 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王静 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种光刻设备包括：通道(46)，用于两相流从其中通过，其中通道形成在块体内，所述块体具有第一材料(100)；第二材料(160)，介于第一材料和通道之间，其中第二材料具有大于第一材料的比热容的比热容；和第三材料(90)，介于第二材料和通道之间，其中第三材料具有大于第二材料的导热率的导热率。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种浸没光刻设备，包括：通道，用于抽取两相流和用于两相流从其中通过，其中通道形成在块体内，所述块体具有第一材料；第二材料，介于第一材料和通道之间，其中第二材料具有大于第一材料的比热容的比热容和/或小于第一材料的导热率的导热率；和第三材料，介于第二材料和通道之间，其中第三材料具有大于第二材料的导热率的导热率。
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