[发明专利]光刻胶去除设备及使用所述设备的光刻胶去除方法有效
| 申请号： | 201580031398.8 | 申请日： | 2015-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN106462088B | 公开（公告）日： | 2019-09-27 |
| 发明（设计）人： | 朴泰文;郑大哲;李东勋;李佑然;李贤浚;金周永 | 申请（专利权）人： | 株式会社LG化学 |
| 主分类号： | G03F7/34 | 分类号： | G03F7/34 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 顾晋伟;郑毅 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光刻胶去除设备以及使用所述设备的光刻胶去除方法，所述设备包括：剥离室，其包括用于去除光刻胶的剥离剂储存槽、用于使表面上形成有光刻胶的基底移动的基底移动装置、用于将用于去除光刻胶的剥离剂喷淋到基底移动装置上的剥离剂喷淋器、以及将用于去除光刻胶的剥离剂从储存槽输送至剥离剂喷淋器的剥离剂输送装置；冷却装置，其位于剥离室的上方并且使剥离室中蒸发的物质冷却；以及传送装置，其将通过冷却装置冷却的物质传送至用于去除光刻胶的剥离剂储存槽或剥离室。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 去除 设备 使用 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻胶去除设备，包括：剥离室，其包括用于去除光刻胶的剥离剂储存槽、用于使表面上形成有所述光刻胶的基底移动的基底移动装置、用于将用于去除所述光刻胶的所述剥离剂喷淋到所述基底移动装置上的剥离剂喷淋器、以及用于将用于去除所述光刻胶的所述剥离剂从所述储存槽输送至所述剥离剂喷淋器的剥离剂输送装置；冷却装置，其位于所述剥离室的上方并且使所述剥离室中蒸发的物质冷却；排放装置，其位于所述基底移动装置与用于去除所述光刻胶的所述剥离剂储存槽之间，并且对喷淋到所述基底上的用于去除光刻胶的剥离剂进行收集，然后将所述剥离剂引入所述剥离剂储存槽中；以及第一传送装置，其用于将所述冷却装置中冷却的物质传送至用于去除所述光刻胶的所述剥离室，其中用于将所述冷却装置中冷却的物质传送至剥离室的所述第一传送装置连接在用于去除所述光刻胶的所述剥离剂储存槽的高度与用于使表面上形成有所述光刻胶的基底移动的所述基底移动装置的高度之间的位置处。
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