[发明专利]磁共振成像装置和高频磁场匀场参数决定方法有效
申请号: | 201580031786.6 | 申请日: | 2015-06-10 |
公开(公告)号: | CN106659416B | 公开(公告)日: | 2019-09-24 |
发明(设计)人: | 吉田琢;仓谷厚志 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立制作所 |
主分类号: | A61B5/055 | 分类号: | A61B5/055 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 范胜杰;曹鑫 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 在MRI装置中,为了与被检体和摄像方式无关地短时间地进行高精度的RF匀场,并获得高品质的图像,具有数据库,该数据库在将计算出了匀场参数的状态作为被检体的基准状态时,预先保存相对于基准状态的变化所对应的匀场参数,在摄像时,使用与相对于该基准状态的变化量所最接近的变化量对应地,在数据库中登记的匀场参数。数据库中登记有根据过去实测出的结果而计算出的匀场参数。 | ||
搜索关键词: | 磁共振 成像 装置 高频 磁场 参数 决定 方法 | ||
【主权项】:
1.一种磁共振成像装置,其特征在于,该磁共振成像装置具备:发送线圈,其具有向配置在静磁场中的被检体照射以预先决定的高频磁场匀场参数所确定的高频磁场脉冲的多个通道;匀场参数决定部,其决定从各个所述通道照射的高频磁场脉冲的高频磁场匀场参数;以及测量控制部,其使用通过所述匀场参数决定部所决定的高频磁场匀场参数,测量从所述被检体产生的回波信号,所述匀场参数决定部具备:匀场数据库,其对应于所述被检体的预定区域相对于预先决定的基准状态的变化量,登记有从各个所述通道照射的所述高频磁场脉冲的所述高频磁场匀场参数;变化量计算部,其计算所述被检体的预定区域的变化量;以及匀场参数提取部,其提取对应于与计算出的所述变化量最接近的值,在所述匀场数据库中登记的所述高频磁场匀场参数,所述匀场数据库针对每个通道数,登记有所述高频磁场匀场参数,所述匀场参数决定部还具备:使用所述高频磁场匀场参数来计算在照射了所述高频磁场的情况下的高频磁场分布的均匀度的均匀度计算部,所述通道数为4,所述匀场数据库具备2通道用的高频磁场匀场参数和4通道用的高频磁场匀场参数,所述匀场参数提取部提取所述2通道用的所述高频磁场匀场参数和4通道用的所述高频磁场匀场参数,所述均匀度计算部分别计算使用所述2通道用的高频磁场匀场参数的情况下的所述均匀度和使用所述4通道用的高频磁场匀场参数的情况下的所述均匀度,所述匀场参数决定部将计算出的均匀度高的一方的所述高频磁场匀场参数决定为在测量中使用的高频磁场匀场参数。
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