[发明专利]高折射组合物、抗反射膜及制备方法在审
| 申请号： | 201580031802.1 | 申请日： | 2015-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN106459418A | 公开（公告）日： | 2017-02-22 |
| 发明（设计）人： | 赵烘宽;金宪助;金源国;洪周希;金裕峻 | 申请（专利权）人： | 乐金华奥斯有限公司 |
| 主分类号： | C08G77/38 | 分类号： | C08G77/38;C08G77/398;C08G77/20;C08F220/18 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司11332 | 代理人： | 吕琳;刘明海 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供高折射组合物，上述高折射组合物包含：网状结构的含金属有机低聚硅氧烷，一部分硅被金属取代，从而含有金属；以及光固化性丙烯酸酯类化合物，上述金属包含选自由钛、锆以及它们的组合组成的组中的至少一个。并且，本发明提供抗反射膜及制备方法，上述抗反射膜包括通过使上述高折射组合物光固化而形成的高折射层。 | ||
| 搜索关键词： | 折射 组合 反射 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种高折射组合物，其特征在于，包含：网状结构的含金属有机低聚硅氧烷，一部分硅被金属取代，从而含有金属；以及光固化性丙烯酸酯类化合物，上述金属包含选自由钛、锆以及它们的组合组成的组中的至少一个。
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