[发明专利]气体阻隔膜和其制造方法

摘要

本发明的课题在于提供气体阻隔性的面内的波动少、反复弯折时的气体阻隔性的劣化得到抑制的气体阻隔膜和其制造方法。本发明的气体阻隔膜是在基材膜上通过卷对卷形成气体阻隔层的气体阻隔膜，其特征在于，从所述气体阻隔膜采取多个试样作为评价试样，使用具有与水分反应而发生腐蚀的腐蚀性金属层的水蒸汽透过率评价单元通过特定的评价方法进行评价而得到的水蒸汽透过率(WVTR)的标准偏差(σ)满足下述式(I)。式(I)：0.01≤σ≤0.40。

主权项

一种气体阻隔膜，其特征在于，是在基材膜上通过卷对卷形成气体阻隔层的气体阻隔膜，从所述气体阻隔膜采取多个试样作为水蒸汽透过率评价用试样，通过至少下述步骤(1)～(5)进行评价而得到的水蒸汽透过率WVTR的标准偏差σ满足下述式(I)，式(I) 0.01≤σ≤0.40步骤(1)，制作依次设有不透水基板、能与水分反应而发生腐蚀的腐蚀性金属层和评价试样的水蒸汽透过率评价单元；步骤(2)，在暴露于水蒸汽前后，从所述水蒸汽透过率评价单元的一面侧入射光并测定所述腐蚀性金属层的光学特性的变化；步骤(3)，将所述腐蚀性金属层的指定的范围分别以一定的单位面积分割成10等份以上的一定的分割数，测定相互对应的各部分的光学特性的变化量；步骤(4)，由通过所述测定得到的光学特性的变化量计算腐蚀部分的体积，基于该体积计算水蒸汽透过率；步骤(4)，由通过所述测定得到的光学特性的变化量计算腐蚀部分的体积，基于该体积计算水蒸汽透过率；步骤(5)，基于所述步骤(4)中得到的各部分的水蒸汽透过率计算平均值和标准偏差。