[发明专利]氧化物烧结体、其制造方法及溅射靶有效
申请号: | 201580033197.1 | 申请日: | 2015-07-27 |
公开(公告)号: | CN106458763B | 公开(公告)日: | 2021-03-12 |
发明(设计)人: | 尾身健治;伊藤谦一;内海健太郎 | 申请(专利权)人: | 东曹株式会社 |
主分类号: | C04B35/453 | 分类号: | C04B35/453;C23C14/34 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 沈雪 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
本发明的目的在于,提供一种即使在高功率成膜时异常放电现象也少、没有靶裂纹的用于溅射靶的氧化物烧结体。一种氧化物烧结体,其具有锌、铝、钛及氧作为构成元素,其特征在于,在将锌、铝、钛的含量分别设为Zn、Al、Ti时,构成该烧结体的元素的原子比为Al/(Zn+Al+Ti)=0.035~0.050Ti/(Zn+Al+Ti)=0.05~0.20,该烧结体中以Zn |
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搜索关键词: | 氧化物 烧结 制造 方法 溅射 | ||
【主权项】:
一种氧化物烧结体,其具有锌、铝、钛及氧作为构成元素,其中,在将锌、铝、钛的含量分别设为Zn、Al、Ti时,构成该烧结体的元素的原子比为:Al/(Zn+Al+Ti)=0.035~0.050Ti/(Zn+Al+Ti)=0.05~0.20,该烧结体中,以Zn2TiO4结晶相为母相的晶粒的平均粒径为5μm以下。
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