[发明专利]光刻设备和方法

摘要

一种修改光刻设备的方法，光刻设备包括用于提供辐射束的照射系统，用于支撑图案化装置以在其截面中赋予辐射束图案的支撑结构，用于在图案化装置处投影辐射束的具有第一放大倍率的第一透镜，用于保持衬底的衬底工作台，以及用于在衬底的目标部分处投影图案化辐射束的具有第二放大倍率的第一投影系统。第一透镜和第一投影系统一起提供了第三放大倍率。方法包括以第一因子减小第一放大倍率以提供用于投影辐射束的具有第四放大倍率的第二透镜；以及以第一因子增大第二放大倍率以提供用于在衬底的目标部分处投影图案化辐射束的具有第五放大倍率的第二投影系统。

主权项

1.一种修改光刻设备的方法，所述光刻设备包括用于提供辐射束的照射系统，在所述照射系统下游用于支撑图案化装置的支撑结构，所述图案化装置用于在所述辐射束的截面中赋予所述辐射束图案以提供图案化的辐射束，用于使用第一放大倍率在所述图案化装置处投影所述辐射束的第一透镜，在所述支撑结构下游用于保持衬底的衬底工作台，以及用于使用第二放大倍率在所述衬底的目标部分处投影所述图案化的辐射束的第一投影系统，所述第一透镜和所述第一投影系统一起提供了第三放大倍率，所述方法包括：以第一因子减小由所述透镜提供的所述第一放大倍率，以提供用于使用第四放大倍率投影所述辐射束的第二透镜；以及以所述第一因子增大所述第二放大倍率，以提供用于使用第五放大倍率在所述衬底的所述目标部分处投影所述图案化的辐射束的第二投影系统。