[发明专利]用于制造构件元件的方法在审
| 申请号： | 201580035007.X | 申请日： | 2015-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN106471137A | 公开（公告）日： | 2017-03-01 |
| 发明（设计）人： | J·施特雷勒;K·比希纳 | 申请（专利权）人： | 罗伯特·博世有限公司 |
| 主分类号： | C21D1/09 | 分类号： | C21D1/09;C21D1/55;F02M61/16;G01N25/20 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人： | 侯鸣慧 |
| 地址： | 德国斯*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在一种用于制造构件元件的方法(100)中，改性所述构件元件(11)的至少一个区域(11′)，其方式是，所述区域(11′)选择性地经受辐射(101)，以便实现该区域(11′)的组织结构改变，并且，在测量技术上感测该区域(11′)的过程状态，其方式是，以经调制的辐射照射该区域(11′)并且接着相位灵敏地探测从该区域发射出的热辐射(17)(104)，其中，求取在所射入的经调制的辐射和所探测的热辐射之间的相位关系作为对所述区域(11′)的组织结构改变的尺度(105)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制造 构件 元件 方法 | ||
【主权项】：
一种用于制造构件元件、尤其是用于燃料喷射系统的构件元件的方法，其中，改性所述构件元件(11)的至少一个区域(11′)，其方式是，选择性地使所述区域经受辐射(101)，以便实现该区域(11′)的组织结构改变，并且，在测量技术上感测该区域(11′)的过程状态，其方式是，以经调制的辐射照射该区域(11′)并且相位灵敏地探测(104)因此从该区域(11′)发出的热辐射(17)，其中，求取(105)所射入的经调制的辐射与探测到的热辐射之间的相位关系作为所述区域的过程状态的尺度。
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