[发明专利]碳化硅单晶的制造方法和碳化硅基板在审

专利信息
申请号: 201580035227.2 申请日: 2015-06-24
公开(公告)号: CN106471165A 公开(公告)日: 2017-03-01
发明(设计)人: 川濑智博 申请(专利权)人: 住友电气工业株式会社
主分类号: C30B29/36 分类号: C30B29/36;C30B23/06
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司11219 代理人: 王海川,穆德骏
地址: 日本大阪*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种碳化硅单晶的制造方法,所述方法包括以下步骤准备具有粘接部(Bp)和阶梯部(Sp)的支撑构件(20b),阶梯部(Sp)配置在所述粘接部(Bp)的周缘的至少一部分处;和在阶梯部(Sp)上配置缓冲材料。粘接部(Bp)和缓冲材料(2)构成支撑面(Sf)。此外,这种制造方法还包括以下步骤在支撑面(Sf)上配置种晶(10)并将所述粘接部(Bp)与所述种晶(10)互相粘接;和在种晶(10)上生长单晶(11)。
搜索关键词: 碳化硅 制造 方法
【主权项】:
一种碳化硅单晶的制造方法,所述方法包括以下步骤:准备具有粘接部和阶梯部的支撑构件,所述阶梯部配置在所述粘接部的周缘的至少一部分处;在所述阶梯部上配置缓冲材料,所述粘接部和所述缓冲材料构成支撑面;在所述支撑面上配置种晶并将所述粘接部与所述种晶互相粘接;和在所述种晶上生长单晶。
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