[发明专利]包括垂直补偿处理的立体光刻方法及适于执行所述方法的设备和计算机程序产品

摘要

本发明涉及通过叠加一连串层来制造三维对象的立体光刻方法，所述层使液体材料曝光于预定辐射而固化来获得，方法包括以下操作：限定层的几何表示；在一连串层中选择参考层之前的层；限定掩模区域，其对应于参考层平面上再现的选择层的几何表示与参考层的几何表示的逻辑连接；在掩模区域中将液体材料曝光于预定辐射。根据方法，在限定掩模区域之前，修改选择层的几何表示以使用相对于修改前配置的相应层的几何表示突出的相应附加部分来延伸选择层的几何表示，附加部分被限定成补偿由预定辐射在液体材料中向下渗透到与层对应的深度引起的预定辐射对液体材料的固化效果减小，以便三维对象在一组层固化之后获得的部分的轮廓更精确逼近三维对象的轮廓。

主权项

1.一种用于通过叠加一连串层(1‑5)来制造三维对象(10)的立体光刻方法，所述一连串层(1‑5)从适于在曝光于预定辐射(6)之后被固化的液体材料获得，所述方法包括限定所述一连串层(1‑5)中的每个层(1，2，3，4，5)的几何表示的操作，并且进一步包括针对所述一连串层(1‑5)中的至少一个参考层(4)执行的以下操作序列：‑根据所述一连串层(1‑5)来选择所述参考层(4)之前的一个或更多个层(2)；‑限定第一掩模区域(9)，所述第一掩模区域(9)对应于在所述参考层(4)的平面上再现的一个或更多个层(2)的几何表示与所述参考层(4)的几何表示的逻辑连接；以及‑在所述第一掩模区域(9)中将所述液体材料曝光于所述预定辐射(6)，其特征在于，所述操作序列在限定所述第一掩模区域(9)的操作之前包括以下操作：修改所述一个或更多个层(2)的几何表示，使得使用相应附加部分(2a)来延伸所述一个或更多个层(2)的几何表示，其中，所述附加部分(2a)中的每一个相对于所述一个或更多个层(2)的相应层(2)的在所述修改之前被配置的几何表示突出，并且其中，所述附加部分(2a)被限定成使得补偿由于所述预定辐射(6)在所述液体材料中向下渗透到与所述一个或更多个层(2)相对应的深度而引起的所述预定辐射(6)对所述液体材料的固化效果减小，以便与在缺少所述附加部分(2a)的情况下获得的三维对象(10)的轮廓相比，所述三维对象(10)的在所述一连串层(1‑5)的固化之后获得的部分的轮廓更精确地逼近所述三维对象(10)的轮廓(11)。