[发明专利]作为抗菌剂的三环苯并氧杂硼杂环戊烯类在审
| 申请号： | 201580035919.7 | 申请日： | 2015-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN106459097A | 公开（公告）日： | 2017-02-22 |
| 发明（设计）人： | A.索尼;A.阿加瓦;S.S.德斯穆克;K.P.普纳帕特雷;丸本真志 | 申请（专利权）人： | 第一三共株式会社 |
| 主分类号： | C07F5/02 | 分类号： | C07F5/02;A61K31/69;A61P31/04 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人： | 黄登高;鲁炜 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了由通式(I)表示的三环化合物、其药用盐或其立体异构体，其显示针对革兰氏阴性细菌或其抗性细菌的优秀抗菌活性，并且在安全性方面也是优秀的。此外，本发明提供了生产方法、包含三环化合物、其药学上可接受的盐或其立体异构体作为活性成分的药物组合物和其作为药剂的用途。本发明的化合物可用于治疗和/或预防疾病例如复杂性尿路感染(cUTI)、医院性肺炎、腹腔内感染(IAI)或菌血症。 | ||
| 搜索关键词： | 作为 抗菌剂 三环苯 氧杂硼杂环 戊烯 | ||
【主权项】：
由通式(I)表示的化合物、其立体异构体或药学上可接受的盐：其中R1、R2、R3和R4中邻近的两个与苯并氧杂硼杂环戊烯结构部分一起形成由下式表示的三环结构：；而R1、R2、R3和R4中不参与三环结构形成的剩余的两个表示氢原子，X1和X2各自独立地表示亚甲基或氧原子，和n表示1或2的整数。
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