[发明专利]光刻设备以及使用光刻设备制造器件的方法

摘要

一种光刻设备包括用于将图案化的辐射束投影到衬底上的投影系统以及被配置为将浸没流体限制在投影系统和衬底的表面之间的局部区域中的流体限制结构。光刻设备被配置为具有这样的空间：该空间在一侧由投影系统和光刻设备的至少部分地包围投影系统的最终元件的部件中的至少一个的表面界定以及在另一侧由流体限制结构的表面界定。该设备被配置为使空间内的气体的湿度最大化。

主权项

1.一种光刻设备，包括：投影系统，用于将图案化的辐射束投影到衬底上；流体限制结构，被配置为将浸没流体限制在所述投影系统的最终元件和所述衬底的表面之间的局部区域中；空间，所述空间在一侧由所述光刻设备的部件和所述投影系统中的至少一个的表面界定，并且所述空间在另一侧由所述流体限制结构的表面限定，所述部件至少部分地围绕所述投影系统的所述最终元件，所述部件与所述流体限制结构分开；以及一个或多个开口，所述一个或多个开口在所述光刻设备的所述部件和所述投影系统中的所述至少一个的所述表面中，被配置为连接到用于向所述空间供应加湿气体的加湿气体源和用于从所述空间提取气体的欠压源中的一个，其中所述一个或多个开口被提供在所述投影系统的表面中。