[发明专利]通过光纤激光器使非晶硅衬底均匀再结晶的工艺和系统有效

专利信息
申请号: 201580036440.5 申请日: 2015-07-01
公开(公告)号: CN106663655B 公开(公告)日: 2019-05-07
发明(设计)人: 尤里·叶罗欣;伊格尔·山马尔特瑟夫 申请(专利权)人: IPG光子公司
主分类号: H01L21/762 分类号: H01L21/762;H01L21/822;H01L21/268
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 倪斌
地址: 美国马*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 用于使非晶硅(a‑Si)膜结晶的本发明系统配置有准连续波光纤激光源,该准连续波光纤激光源操作为发射膜照射脉冲光束。光纤激光源操作为发射入射在a‑Si上的多个非重复脉冲。具体地,光纤激光器操作为以突发重复率(BRR)发射膜照射光的多个分立分组,并且以高于BRR的脉冲重复率(PRR)在每个分组内发射多个脉冲。每个脉冲的脉冲能量、脉冲持续时间以及PRR被控制为使得每个分组具有期望的分组时间功率分布(W/cm2)和足以在膜的暴露于至少一个分组的每个位置处提供a‑Si到多晶硅(p‑Si)的转变的分组能量。
搜索关键词: 通过 光纤 激光器 使非晶硅 衬底 均匀 再结晶 工艺 系统
【主权项】:
1.一种用于通过顺序横向固化SLS来使非晶硅a‑Si膜结晶的系统,包括:准连续波QCW光纤激光源,操作为发射在紫外UV波长范围内的脉冲线束并被配置为具有主振荡器功率光纤放大器MOPFA光学方案,其中所述主振荡器被直接调制;以及控制器,操作为控制所述主振荡器以便:以突发重复率BRR发射光的多个分立分组,其中每个分组的持续时间为ns的范围且分组时间功率分布为μJ/cm2的范围,以及在ns范围内以高于BRR的脉冲重复率PRR在每个分组内发射多个ns脉冲,其中脉冲能量、脉冲持续时间和PRR被控制为使得每个分组具有期望的分组时间功率分布和分组能量,所述分组时间功率分布和分组能量足以在a‑Si膜的暴露于至少两个分组的每个位置处提供a‑Si到多晶硅p‑Si的结晶。
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