[发明专利]成膜掩模、成膜掩模的制造方法和触摸面板有效
| 申请号： | 201580036959.3 | 申请日： | 2015-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN106488995B | 公开（公告）日： | 2019-11-08 |
| 发明（设计）人： | 水村通伸;工藤修二;梶山康一 | 申请（专利权）人： | 株式会社V技术 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;G06F3/041 |
| 代理公司： | 北京市隆安律师事务所 11323 | 代理人： | 权鲜枝;侯剑英 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明具备：掩模层(1)，其与在显示面板(5)的显示面上成膜形成的透明电极对应而具有与该透明电极的形状尺寸相同的开口图案(4)；以及支撑层(2)，其具有横穿开口图案(4)而设置于掩模层(1)的一个面(1a)的多个支撑线(2a)，支撑层(2)的支撑线(2a)的排列间距设为可抑制由作为成膜的膜厚不匀而转印到透明电极上的支撑线(2a)的阴影导致的莫尔条纹或者衍射条纹的发生的尺寸。 | ||
| 搜索关键词： | 成膜掩模 制造 方法 触摸 面板 | ||
【主权项】：
1.一种成膜掩模，其特征在于，具备：掩模层，其与在基板成膜形成的薄膜图案对应地具有与该薄膜图案的形状尺寸相同的开口图案；以及支撑层，其具有横穿上述开口图案而设置于上述掩模层的一个面的多个细线，上述支撑层的细线的排列间距是能抑制由于作为成膜的膜厚不匀而转印到上述薄膜图案上的上述细线的阴影导致的莫尔条纹或者衍射条纹的发生的尺寸，上述支撑层的细线在上述基板和上述掩模层被定位的状态下，按大于0度且小于180度的角度与在上述基板排列为一列而形成的多个矩形形状图案的排列方向交叉的方式设置。
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