[发明专利]化学机械抛光(CMP)组合物有效
| 申请号： | 201580037575.3 | 申请日： | 2015-07-14 |
| 公开（公告）号： | CN106661382B | 公开（公告）日： | 2020-03-24 |
| 发明（设计）人： | R·赖夏特;M·西伯特;兰永清;M·劳特尔;H·O·格文茨;J·普罗尔斯;S·A·奥斯曼易卜拉欣;R·戈扎里安 | 申请（专利权）人： | 巴斯夫欧洲公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 刘娜;刘金辉 |
| 地址： | 德国路*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种化学机械抛光(CMP)组合物(Q)，其包含：(A)胶态或烟雾状无机颗粒(A)或其混合物，其总量以相应CMP组合物的总重量计为0.0001重量％至2.5重量％；(B)至少一种氨基酸，其总量以相应CMP组合物的总重量计为0.2重量％至1重量％；(C)至少一种腐蚀抑制剂，其总量以相应CMP组合物的总重量计为0.001重量％至0.02重量％；(D)过氧化氢作为氧化剂，其总量以相应CMP组合物的总量计为0.0001重量％至2重量％；(E)含水介质；其中CMP组合物(Q)的pH在6至9.5范围内。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 cmp 组合 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光(CMP)组合物(Q)，其包含：(A)胶态或烟雾状无机颗粒(A)或其混合物，其总量以相应CMP组合物的总重量计为0.0001重量％至2.5重量％；(B)至少一种氨基酸，其总量以相应CMP组合物的总重量计为0.2重量％至1重量％；(C)至少一种腐蚀抑制剂，其总量以相应CMP组合物的总重量计为0.001重量％至0.02重量％；(D)过氧化氢作为氧化剂，其总量以相应CMP组合物的总量计为0.0001重量％至2重量％；(E)含水介质；其中CMP组合物(Q)的pH在6至9.5范围内。
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