[发明专利]用于同步暗场及相位对比检验的系统及方法有效
申请号: | 201580038195.1 | 申请日: | 2015-07-21 |
公开(公告)号: | CN106575631B | 公开(公告)日: | 2019-02-01 |
发明(设计)人: | 黄传勇;李晴;D·佩蒂伯恩;B·格拉韦斯 | 申请(专利权)人: | 科磊股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 张世俊 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明涉及一种用于同步暗场DF及差分干涉对比DIC检验的检验设备,其包含照明源及经配置以固定样本的样本载物台。所述检验设备包含第一传感器、第二传感器及光学子系统。所述光学子系统包含物镜、一或多个光学元件,所述光学元件经布置以通过所述物镜将来自所述一或多个照明源的照明引导到所述样本的表面。所述物镜经配置以收集来自所述样本的所述表面的信号,其中所述收集到的信号包含来自所述样本的基于散射的信号及/或基于相位的信号。所述检验设备包含一或多个分离光学元件,其经布置以通过沿着DF路径及DIC路径分别引导DF信号及DIC信号,将所述收集到的信号在空间上分离成所述DF信号与所述DIC信号。 | ||
搜索关键词: | 用于 同步 暗场 相位 对比 检验 系统 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于同步暗场及差分干涉对比检验的设备,其包括:一或多个照明源;样本载物台,其经配置以固定样本;第一传感器;第二传感器;及光学子系统,其包括:物镜;一或多个光学元件,其经布置以通过所述物镜将来自所述一或多个照明源的照明引导到所述样本的表面,其中所述物镜经配置以收集来自所述样本的所述表面的收集到的信号,其中所述收集到的信号包含来自所述样本的基于散射的信号与基于相位的信号中的至少一者;及一或多个分离光学元件,其经布置以通过沿着暗场路径将暗场信号引导到所述第一传感器,且沿着差分干涉对比路径将差分干涉对比信号引导到所述第二传感器,而将所述收集到的信号在空间上分离成所述暗场信号与所述差分干涉对比信号,其中所述一或多个分离光学元件包括反射式光瞳屏蔽件,所述反射式光瞳屏蔽件经布置以基于所选择的NA阈值将所述收集到的信号在空间上分离成暗场信号与差分干涉对比信号。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造