[发明专利]用于起偏器保护膜的树脂组合物、起偏器保护膜和包括其的偏光板有效
| 申请号： | 201580038438.1 | 申请日： | 2015-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN106536573B | 公开（公告）日： | 2019-02-15 |
| 发明（设计）人： | 李汉娜;张影来;朴俊昱;许恩树 | 申请（专利权）人： | 株式会社LG化学 |
| 主分类号： | C08F2/50 | 分类号： | C08F2/50;C08F2/44;C08G59/17;C08J3/24;C08L33/04;C08L63/10;C08K3/00;C08J5/18;G02B5/30 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 顾晋伟;赵丹 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及用于起偏器保护膜的树脂组合物、起偏器保护膜以及包括其的偏光板，并且更具体地，涉及用于起偏器保护膜的树脂组合物、起偏器保护膜以及包括其的偏光板，其表现出高硬度和优异的特性。根据本发明的偏光板表现出高硬度、优异的卷曲性能和光学特性，因此可以有效地应用于各种领域中。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 起偏器 保护膜 树脂 组合 包括 偏光 | ||
【主权项】：
1.一种偏光板，包括：起偏器；粘合层；以及起偏器保护膜，其中所述起偏器保护膜包括：基底；和在所述基底的至少一个表面上形成的涂层，其中所述涂层包含可阳离子固化的单体的固化树脂和可自由基固化的单体的固化树脂，其中所述可阳离子固化的单体在分子中包含一个或更多个环烷基和一个或更多个环氧基团，其中通过纳米压痕法测量，所述偏光板表现出4GPa或更大的模量，以及其中通过纳米压痕法测量，所述偏光板表现出0.4GPa或更大的硬度。
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