[发明专利]浸没式光刻设备和器件制造方法有效
| 申请号： | 201580039206.8 | 申请日： | 2015-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN106537257B | 公开（公告）日： | 2019-12-31 |
| 发明（设计）人： | T·W·波勒特;J·J·M·巴塞曼斯;W·J·鲍曼;H·H·A·勒姆蓬斯;T·M·莫德曼;C·M·洛普斯;B·斯密兹;K·斯蒂芬斯;R·范德汉姆 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 11256 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 王茂华;吕世磊 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 公开了光刻设备和器件制造方法。在一个布置中，提供了包括投影系统(PS)的浸没式光刻设备。投影系统被配置成将经图案化的辐射束通过浸没液体投影到衬底的目标部分上。投影系统的外表面包括第一表面(102)。第一表面具有非平面形状。元件(106)被附接至第一表面并且被定位成使得元件的至少一部分在使用中接触浸没液体。元件包括处于预成型状态且符合第一表面的非平面形状的连续整体材料的闭合环。 | ||
| 搜索关键词： | 浸没 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种浸没式光刻设备，包括：/n投影系统，被配置成将经图案化的辐射束通过浸没液体投影到衬底的目标部分上，所述投影系统的外表面包括具有非平面形状的第一表面；以及/n元件，被附接至所述第一表面并且被定位成使得所述元件的至少一部分在使用中接触所述浸没液体，其中：/n所述元件包括处于预成型状态的连续整体材料的闭合环，并且所述闭合环符合所述第一表面的所述非平面形状，使得在所述闭合环上不存在接合面。/n
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