[发明专利]直写型曝光装置有效
| 申请号： | 201580039965.4 | 申请日： | 2015-07-14 |
| 公开（公告）号： | CN106575086B | 公开（公告）日： | 2018-05-18 |
| 发明（设计）人： | 松冈尚弥;山根茂树 | 申请（专利权）人： | 株式会社村田制作所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;B41C1/00;H05K3/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 张鑫 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 直写型曝光装置(100)通过对由基材(B)保持的膜状的感光性树脂(PP)直接照射曝光光线(1b)来进行图案曝光，包括：输出曝光光线(1b)的光源(1)；基台(2)；能支承基材(B)的下表面周缘区域，且进行动作使基材(B)在曝光光线(1b)的光轴方向上移位的移位机构(4a～4d)；以及能支承基材(B)的下表面中央区域的支承构件(7)。支承构件(7)配设在基台(2)的上方，以利用移位机构(4a～4d)使基材(B)移位，在支承构件(7)的上表面与基材(B)的下表面中央区域抵接的状态下，曝光光线(1b)的光轴与支承构件(7)的上表面垂直。 | ||
| 搜索关键词： | 直写型 曝光 装置 | ||
【主权项】：
1.一种直写型曝光装置，通过以规定的图案对保持在板状的基材上的膜状的感光性树脂直接照射曝光光线来进行图案曝光，其特征在于，包括：光源，该光源输出曝光光线；基台；多个移位机构，该多个移位机构包含驱动部及驱动轴，能支承所述基材的下表面周缘区域，且各自独立地进行动作使基材在所述曝光光线的光轴方向上移位；以及支承构件，该支承构件配设在所述基台的上方，能支承所述基材的下表面中央区域，所述多个移位机构使所述基材移位，使得在所述支承构件的上表面与所述基材的下表面中央区域抵接的状态下所述曝光光线的光轴与所述基材的上表面垂直，在所述曝光光线的光轴与所述基材的上表面垂直的状态下，所述驱动部停止，并且使所述多个移位机构维持所述基材的下表面周缘区域被所述多个移位机构所支承的维持状态。
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