[发明专利]气体供给系统、等离子体处理装置和等离子体处理装置的应用方法

摘要

一个实施方式的气体供给系统包括第一～第三机构。第一机构的多个整合部构成为对来自一个以上的气源的气体进行选择并输出所选择的气体。第二机构构成为对来自多个整合部的多个气体进行分配，对所分配的气体的流量进行调节并将其输出。第三机构构成为将气体供给系统内的气体排出至排气装置。

主权项

1.一种等离子体处理装置的应用方法，其用于在所述等离子体处理装置中对气体供给系统内的气体进行置换，所述气体供给系统用于向所述等离子体处理装置供给气体，包括：具有多个整合部的第一机构，所述多个整合部各自对来自一个以上的气源的气体进行选择并输出所选择的气体；对来自所述多个整合部的多种气体进行分配，对所分配的气体的流量进行调节并将其输出的第二机构；和该气体供给系统的排气用的第三机构，所述第一机构包括：分别与多个气源连接的多个第一配管；分别设置于所述多个第一配管的多个第一阀；和比所述多个第一配管的个数少的多个第二配管，所述多个整合部各自包括：所述多个第二配管中的一个第二配管；所述多个第一配管中的、从所述一个第二配管分支并与一个以上的气源连接的一个以上的第一配管；和所述多个第一阀中的、设置于所述一个以上的第一配管的一个以上的第一阀，所述第二机构包括：各自包括与所述多个第二配管的个数相同数量的多个流量控制单元的多个流量控制单元组；和将来自所述多个第二配管的气体分配给所述多个流量控制单元组的分别对应的流量控制单元的多个第三配管，所述第三机构包括：设置有与吹扫气体的气源连接的第二阀和与排气装置连接的第三阀的排气管；在所述第二阀与所述第三阀之间，分别连接所述排气管和所述多个第二配管的多个第四配管；和分别设置于所述多个第四配管的多个第四阀，所述第二机构还包括在所述多个流量控制单元组的每一个中用于使来自所述多个流量控制单元的气体合流的多个合流管，所述等离子体处理装置用于对被处理体进行等离子体处理，包括：所述气体供给系统；提供用于收容被处理体的空间的处理容器；和用于向与所述多个流量控制单元组的个数相同数量的所述处理容器内的多个区域排出气体的多个气体排出部，所述多个合流管分别与所述多个气体排出部连接，所述等离子体处理装置的所述气体供给系统还包括与所述排气管连接的压力计，所述应用方法的特征在于，包括：使所述多个流量控制单元停止的步骤；关闭所述多个第一阀的步骤；打开所述第二阀、所述第三阀、所述多个第四阀的步骤；在由所述压力计所计测的所述排气管的压力成为阈值以下时，关闭所述第二阀、所述第三阀、所述多个第四阀的步骤；打开所述多个第一阀中的与规定的气源连接的第一阀的步骤；和利用所述多个流量控制单元对气体的流量进行调节的步骤。