[发明专利]氧化铝基板或铝基板用的密合覆膜形成剂有效

专利信息
申请号: 201580040161.6 申请日: 2015-05-27
公开(公告)号: CN106536651B 公开(公告)日: 2019-12-20
发明(设计)人: 大田政太郎;饭沼洋介 申请(专利权)人: 日产化学工业株式会社
主分类号: C09D183/00 分类号: C09D183/00;B05D7/00;B05D7/24;B32B9/00;B32B15/04;B32B15/20;B32B18/00;C04B41/87;C09D5/00;C09D7/40;G06F3/041
代理公司: 11277 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供能通过湿式涂布法进行成膜的氧化铝基板或铝基板用密合覆膜形成剂。一种氧化铝基板或铝基板用的密合覆膜形成剂,其含有:包含选自下述式(I)和式(II)所示的烷氧基硅烷中的至少1种的烷氧基硅烷成分的水解缩合物、以及铝盐。(化学式1)Si(OR
搜索关键词: 氧化铝 铝基板用 密合覆膜 形成
【主权项】:
1.一种氧化铝基板,其特征在于,其具有由密合覆膜形成剂而得到的覆膜和功能性膜,所述密合覆膜形成剂含有烷氧基硅烷的水解缩合物、以及铝盐,其中,铝原子相对于硅原子的总摩尔数(Si)和铝原子的摩尔数(Al)的总和的摩尔比(Al/(Si+Al))为0.2~0.4,所述功能性膜是由防污剂得到的覆膜。/n
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