[发明专利]具有ESD元件的半导体装置有效
申请号: | 201580040741.5 | 申请日: | 2015-07-08 |
公开(公告)号: | CN106575653B | 公开(公告)日: | 2020-03-27 |
发明(设计)人: | 理崎智光 | 申请(专利权)人: | 艾普凌科有限公司 |
主分类号: | H01L27/06 | 分类号: | H01L27/06;H01L21/336;H01L21/822;H01L21/8234;H01L27/04;H01L27/088;H01L29/78 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 何欣亭;姜甜 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 在ESD元件进行动作时,抑制发热并且以对构成ESD元件的全部晶体管的全部沟道流过一样的电流的方式,用低电阻物质将多指类型的ESD元件的各个晶体管、各个沟道中存在的各种各样的基板电位电气相连,进而设定为与Vss电位不同的电位,从而谋求电流均匀,通过低电压动作抑制发热,提高ESD承受能力。 | ||
搜索关键词: | 具有 esd 元件 半导体 装置 | ||
【主权项】:
一种具有ESD元件的半导体装置,其特征在于,所述ESD元件具有:半导体衬底;P阱,设在所述半导体衬底表面、杂质浓度比所述半导体衬底还高;N型源极及N型漏极,设在所述P阱内的所述半导体衬底表面、杂质浓度比所述半导体衬底还高;P型区域,与所述N型源极接触而设在所述半导体衬底表面、杂质浓度比所述半导体衬底还高;栅极绝缘膜,设在成为所述N型源极与所述N型漏极之间的所述半导体衬底表面;以及栅极电极,设在所述栅极绝缘膜上,所述N型漏极与焊盘电极连接,所述N型源极与较低的一方的电源电位连接,所述N型源极和所述P型区域没有通过电极连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于艾普凌科有限公司,未经艾普凌科有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201580040741.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的