[发明专利]制备吡唑的方法

摘要

本发明涉及一种用于制备式V的吡唑化合物的方法，所述方法包括使式IV的腙取代的α,β‑不饱和羰基化合物通过使其与合适的试剂如还原剂、有机金属试剂或亲核试剂反应而环化。式V化合物是用于制备吡唑衍生的精细化学品的通用反应工具。本发明还涉及式Va、Vb、Vc和VI的吡唑化合物。

主权项

一种用于制备式V的吡唑化合物或其盐、立体异构体、互变异构体或N‑氧化物的方法所述方法包括以下步骤：使式IV的腙取代的α,β‑不饱和羰基化合物通过使其与包含R6基团的试剂反应而环化，其中R1选自H、卤素、CN、NO2、C1‑C10烷基、C2‑C10链烯基、C2‑C10炔基，其中C原子未被取代，可以部分或完全地被卤化或者可以被1、2或3个相同或不同的取代基Rx取代；ORa、SRa、C(Y)ORc、S(O)mRd、S(O)mY1Rd、NReRf、C(Y)NRgRh、杂环基、杂芳基、C3‑C10环烷基、C3‑C10环烯基和芳基，其中环状结构部分可以未被取代或者可以被1、2、3、4或5个选自基团Ry和Rx的相同或不同的取代基取代；R2选自H、C1‑C10烷基、C2‑C10链烯基、C2‑C10炔基，其中C原子可以未被取代，可以部分或完全地被卤化或者可以被1、2或3个相同或不同的取代基Rx取代；C(Y)ORc、C(Y)NRgRh、杂环基、杂芳基、C3‑C10环烷基、C3‑C10环烯基和芳基，其中环状结构部分可以未被取代或者可以被1、2、3、4或5个选自基团Ry和Rx的相同或不同的取代基取代；并且R3选自H、卤素、CN、NO2、C1‑C10烷基、C2‑C10链烯基、C2‑C10炔基，其中C原子可以未被取代，可以部分或完全地被卤化或者可以被1、2或3个相同或不同的取代基Rx取代；ORa、SRa、C(Y)ORc、S(O)mRd、S(O)mY1Rd、NReRf、C(Y)NRgRh、杂环基、杂芳基、C3‑C10环烷基、C3‑C10环烯基和芳基，其中环状结构部分可以未被取代或者可以被1、2、3、4或5个选自基团Ry和Rx的相同或不同的取代基取代；并且其中R4和R5彼此独立地选自H、NO2、C1‑C10烷基、C2‑C10链烯基、C2‑C10炔基，其中C原子可以未被取代，可以部分或完全地被卤化或者可以被1、2或3个相同或不同的取代基Rx取代；C1‑C10卤代烷基、C1‑C4烷氧基‑C1‑C10烷基，其中C原子可以未被取代或者部分或完全地被相同或不同的取代基Ry取代；C(Y)ORc、C(Y)NRgRh、C(Y)NRiNReRf、C1‑C5亚烷基‑ORa、C1‑C5亚烷基‑CN、C1‑C5亚烷基‑C(Y)ORc、C1‑C5亚烷基‑NReRf、C1‑C5亚烷基‑C(Y)NRgRh、C1‑C5亚烷基‑S(O)mRd、C1‑C5亚烷基‑S(O)mNReRf、C1‑C5亚烷基‑NRiNReRf，杂环基、C3‑C10环烷基、C3‑C10环烯基、杂芳基、芳基、杂环基‑C1‑C5烷基、C3‑C10环烷基‑C1‑C5烷基、C3‑C10环烯基‑C1‑C5烷基、杂芳基‑C1‑C5烷基、芳基‑C1‑C5烷基，其中环状结构部分可以未被取代或者可以被1、2、3、4或5个相同或不同的取代基Ry取代；基团D‑E，其中D是直接键、C1‑C6亚烷基、C2‑C6亚烯基或C2‑C6亚炔基，其碳链可以部分或完全地被Rn取代，并且E是非芳族的3‑12元碳环或杂环，其可以包含1、2、3或4个选自N‑Rl、O和S的杂原子，其中S可以被氧化，所述碳环或杂环可以部分或完全地被Rn取代；以及基团A‑SOm‑G，其中A是C1‑C6亚烷基、C2‑C6亚烯基和C2‑C6亚炔基，其中C原子可以未被取代或者部分或完全地被Rp取代，并且G是C1‑C4卤代烷基或可被卤化的C3‑C6环烷基；或者R4和R5与它们所连接的碳原子一起形成3‑12元非芳族碳环或杂环，所述杂环可以包含1、2、3、4或5个选自N‑Rl、O和S的杂原子，其中S可以被氧化，并且所述碳环或杂环可以部分或完全地被Rj取代；并且其中R6选自H、CN、C1‑C6氟烷基、C1‑C6烷基、C2‑C6链烯基、C2‑C6炔基、C3‑C6环烷基、C3‑C6环烷基‑C1‑C2烷基、C3‑C6环烯基、C3‑C6环烯基‑C1‑C2烷基、杂环基、杂环基‑C1‑C2烷基、芳基、芳基‑C1‑C2烷基、杂芳基、杂芳基‑C1‑C2烷基，其中碳链或环状结构部分可以未被取代，部分或完全地被相同或不同的取代基Rx取代；ORa、SRa、NReRf，和通式(i)的基团并且其中Ra、Rb彼此独立地选自H、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C3‑C6环烷基、C3‑C6环烷基甲基、C3‑C6卤代环烷基、C3‑C6环烯基、C3‑C6环烯基甲基、C3‑C6卤代环烯基、C2‑C4链烯基、C2‑C4卤代链烯基、C2‑C4炔基、C1‑C4烷氧基‑C1‑C4烷基、杂环基、杂环基‑C1‑C4烷基、芳基、杂芳基、芳基‑C1‑C4烷基和杂芳基‑C1‑C4烷基，其中环状结构部分可以未被取代或者可以被1、2、3、4或5个彼此独立地选自卤素、CN、C(O)NH2、NO2、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基和C1‑C4卤代烷氧基的取代基取代；Rc选自H、C1‑C10烷基、C1‑C10卤代烷基、C3‑C10环烷基、C3‑C10环烷基甲基、C3‑C10卤代环烷基、C3‑C6环烯基、C3‑C6环烯基甲基、C3‑C6卤代环烯基、C2‑C10链烯基、C2‑C10卤代链烯基、C2‑C4炔基、C1‑C4烷氧基‑C1‑C4烷基、杂环基、杂环基‑C1‑C4烷基、芳基、杂芳基、芳基‑C1‑C4烷基和杂芳基‑C1‑C4烷基，其中在后提到的6个基团中的环可以未被取代或者可以被1、2、3、4或5个彼此独立地选自卤素、CN、C(O)NH2、NO2、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基和C1‑C4卤代烷氧基的取代基取代；或者Rc与C(Y)O基团一起形成盐[C(Y)O]‑NR4+、[C(Y)O]‑Ma+或[C(Y)O]‑1/2Mea2+，其中Ma是碱金属，Mea是碱土金属，并且其中在氮原子上的取代基R彼此独立地选自H、C1‑C10烷基、苯基和苯基‑C1‑C4烷基；Rd选自C1‑C4烷氧基、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C3‑C6环烷基、C3‑C6环烷基甲基、C3‑C6卤代环烷基、C3‑C6环烯基、C3‑C6环烯基甲基、C3‑C6卤代环烯基、C2‑C4链烯基、C2‑C4卤代链烯基、C2‑C4炔基、C1‑C4烷氧基‑C1‑C4烷基、杂环基、杂环基‑C1‑C4烷基、芳基、杂芳基、芳基‑C1‑C4烷基和杂芳基‑C1‑C4烷基，其中环状结构部分可以未被取代或者可以被1、2、3、4或5个彼此独立地选自卤素、CN、C(O)NH2、NO2、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基和C1‑C4卤代烷氧基的取代基取代；Re、Rf彼此独立地选自H、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C3‑C6环烷基、C3‑C6环烷基甲基、C3‑C6卤代环烷基、C3‑C6环烯基、C3‑C6环烯基甲基、C3‑C6卤代环烯基、C2‑C4链烯基、C2‑C4卤代链烯基、C2‑C4炔基、C1‑C4烷氧基‑C1‑C4烷基、C1‑C4烷基羰基、C1‑C4卤代烷基羰基、C1‑C4烷基磺酰基、C1‑C4卤代烷基磺酰基、杂环基、杂环基‑C1‑C4烷基、杂环基羰基、杂环基‑C1‑C4磺酰基、芳基、芳基羰基、芳基磺酰基、杂芳基、杂芳基羰基、杂芳基磺酰基、芳基‑C1‑C4烷基和杂芳基‑C1‑C4烷基，其中环状结构部分可以未被取代或者可以被1、2、3、4或5个彼此独立地选自卤素、CN、C(O)NH2、NO2、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基和C1‑C4卤代烷氧基的取代基取代；或者Re和Rf与它们所键合的N原子一起形成5或6元饱和或不饱和的杂环，其可以被选自O、S和N的另外的杂原子作为环成员原子取代，并且其中所述杂环可以未被取代或者可以被1、2、3、4或5个彼此独立地选自卤素、CN、C(O)NH2、NO2、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基和C1‑C4卤代烷氧基的取代基取代；Rg、Rh彼此独立地选自H、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C3‑C6环烷基、C3‑C6卤代环烷基、C3‑C6环烯基、C3‑C6卤代环烯基、C2‑C4链烯基、C2‑C4卤代链烯基、C2‑C4炔基、C1‑C4烷氧基‑C1‑C4烷基、杂环基、杂环基‑C1‑C4烷基、芳基、杂芳基、芳基‑C1‑C4烷基和杂芳基‑C1‑C4烷基，其中环状结构部分可以未被取代或者可以被1、2、3、4或5个彼此独立地选自卤素、CN、C(O)NH2、NO2、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基和C1‑C4卤代烷氧基的取代基取代；Ri选自H、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C3‑C6环烷基、C3‑C6环烷基甲基、C3‑C6卤代环烷基、C3‑C6环烯基、C3‑C6环烯基甲基、C3‑C6卤代环烯基、C2‑C4链烯基、C2‑C4卤代链烯基、C2‑C4炔基、C1‑C4烷氧基‑C1‑C4烷基、芳基和芳基‑C1‑C4烷基，其中芳基环可以未被取代或者可以被1、2、3、4或5个彼此独立地选自卤素、CN、C(O)NH2、NO2、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基和C1‑C4卤代烷氧基的取代基取代；Rj是卤素，OH，CN，C(O)NH2，NO2，C1‑C10烷基，C1‑C10卤代烷基，C1‑C10烷氧基，C1‑C10卤代烷氧基，苄氧基，S(O)mRk，C3‑C6环烷基,或3‑6元杂环，其可以包含1或2个选自N‑Rl、O和S的杂原子，其中S可以被氧化，所述Rj基团未被取代或者部分或完全地被Rm取代，并且其中两个连接到相同或相邻环原子的基团Rj可以一起形成3‑6元碳环或杂环，所述杂环可以包含1或2个选自N‑Rl、O和S的杂原子，其中S可以被氧化，所述环可以部分或完全地被Rm基团取代；Rk是H、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基或C3‑C6环烷基，所述环可以部分或完全地被Rl取代；Rl是H、卤素、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷基羰基或C1‑C4烷氧基羰基；Rm是卤素、OH、CN、C(O)NH2、NO2、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C3‑C6环烷基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷氧基或S(O)mRk；Rn是卤素、CN、C(Y)ORc、C(O)NH2、NO2、C1‑C2烷基、C1‑C4卤代烷基、C2‑C6链烯基、C2‑C6炔基、C3‑C6环烷基、C3‑C6环烯基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷氧基、C1‑C4烷氧基‑C1‑C4烷基、C1‑C4亚烷基或S(O)mRo，两个相邻基团Rn可以与它们所键合的原子一起形成3‑8元碳环或杂环，其可以包含1、2、3或4个选自N‑Rl、O和S的杂原子，其中S可以被氧化，所述Rn环状结构部分可以被卤素、Ro或Rl取代；Ro是H、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C3‑C6环烷基或C1‑C4烷氧基；Rp是卤素、CN、C(O)NH2、NO2、C1‑C2烷基、C1‑C2卤代烷基、C3‑C6环烷基、C1‑C4烷氧基或C1‑C2卤代烷氧基，或者两个基团Rp可以一起形成3‑6元碳环或杂环，所述杂环包含1或2个选自N‑Rl、O和S的杂原子，其中S可被氧化，所述碳环或杂环未被取代或者部分或完全地被基团Rq取代；Rq是卤素、CN、C(O)NH2、NO2、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C3‑C6环烷基、C1‑C4烷氧基或C1‑C4卤代烷氧基；Rr和Rs彼此独立地选自Rb、ORc1和NRgRh；Rc1是C1‑C10烷基、C1‑C10卤代烷基、C3‑C10环烷基、C3‑C10环烷基甲基、C3‑C10卤代环烷基、C3‑C6环烯基、C3‑C6环烯基甲基、C3‑C6卤代环烯基、C2‑C10链烯基、C2‑C10卤代链烯基、C2‑C4炔基、C1‑C4烷氧基‑C1‑C4烷基、杂环基、杂环基‑C1‑C4烷基、芳基、杂芳基、芳基‑C1‑C4烷基或杂芳基‑C1‑C4烷基，其中在后提到的6个基团中的环可以未被取代或者可以被1、2、3、4个或彼此独立地选自卤素、CN、C(O)NH2、NO2、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基或C1‑C4卤代烷氧基的取代基取代；Rt是H或Ra；Rx是卤素、CN、C(Y)ORc、C(Y)NRgRh、NO2、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷氧基、S(O)mRd、S(O)mNRgRh、C1‑C5亚烷基‑NHC(O)ORc、C1‑C10烷基羰基、C1‑C4卤代烷基羰基、C1‑C4烷氧基羰基、C1‑C4卤代烷氧基羰基、C3‑C6环烷基、5‑7元杂环基、5或6元杂芳基、芳基、C3‑C6环烷氧基、3‑6元杂环氧基或芳氧基，其中环状结构部分可以未被取代或者可被1、2、3、4或5个基团Ry取代；并且Ry选自卤素、CN、C(Y)ORc、C(Y)NRgRh、NO2、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷氧基、苄氧基甲基、S(O)mRd、S(O)mNReRf、C1‑C4烷基羰基、C1‑C4卤代烷基羰基、C1‑C4烷氧基羰基、C1‑C4卤代烷氧基羰基、C3‑C6环烷基、C3‑C6卤代环烷基、C2‑C4链烯基、C2‑C4卤代链烯基、C2‑C4炔基和C1‑C4烷氧基‑C1‑C4烷基；并且其中Y是O或S；Y1是O、S或N‑R1a；R1a是H、C1‑C10烷基、C3‑C12环烷基、芳基或杂芳基；并且m是0、1或2。