[发明专利]具有高光谱发射率的成型烧结耐火材料及其生产方法及提高耐火成型体光谱发射率的方法在审
申请号: | 201580041666.4 | 申请日: | 2015-07-29 |
公开(公告)号: | CN107108378A | 公开(公告)日: | 2017-08-29 |
发明(设计)人: | F·布伦克 | 申请(专利权)人: | P-D耐火材料有限公司 |
主分类号: | C04B38/00 | 分类号: | C04B38/00;C04B35/66;C04B35/63;C04B35/632;C04B35/14 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人: | 李振东,过晓东 |
地址: | 德国维尔*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及尤其用于玻璃熔窑的烧制耐火成型体,其含有SiO2、SiC以及粘合剂或粘合剂混合物作为主要组分,其中所述材料具有高的光谱发射率,其中在基质中分布有在1μm至5μm的光谱范围内在高于1000℃的温度下具有高于基质光谱发射能力的光谱发射能力的物质,其中所述物质含有碳化硅,所述材料中的碳化硅含量为0.2至20重量%,优选为0.3至15重量%,所述材料的二氧化硅含量为至少78重量%并且具有最多6重量%的其他物质,总和为100重量%。本发明还涉及生产耐火成型体的方法以及提高耐火成型体的光谱发射率的方法。 | ||
搜索关键词: | 具有 光谱 发射 成型 烧结 耐火材料 及其 生产 方法 提高 耐火 | ||
【主权项】:
用于玻璃熔窑上部结构中的成型烧制耐火材料,其含有SiO2、SiC以及粘合剂或粘合剂混合物作为主要组分,其特征在于,所述材料具有高的光谱发射率,其中在基质中分布有在1μm至5μm的光谱范围内在高于1000℃的温度下具有高于基质光谱发射能力的光谱发射能力的物质,其中所述物质含有碳化硅,所述材料中的碳化硅含量为0.2至20重量%,优选为0.3至15重量%,所述材料的二氧化硅含量为至少78重量%并且具有最多6重量%的其他物质,总和为100重量%。
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