[发明专利]质谱仪的等离子体清洁有效
| 申请号： | 201580041831.6 | 申请日： | 2015-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN106575598B | 公开（公告）日： | 2020-04-28 |
| 发明（设计）人： | G·佩雷尔曼;M·丹宁;M·瓦伊德鲍尔;G·帕特里奇 | 申请（专利权）人： | 安捷伦科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J49/00 | 分类号： | H01J49/00 |
| 代理公司： | 北京坤瑞律师事务所 11494 | 代理人： | 封新琴 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 质谱(MS)系统可以通过如下进行清洁：产生等离子体，并且使所述系统的内表面与所述等离子体接触进行清洁。所述系统可以在分析模式的操作与清洁模式的操作之间进行切换。在所述分析模式中，对样品进行分析，并且可以主动地产生等离子体，或不可以主动地产生等离子体。在所述清洁模式中，主动地产生所述等离子体，并且可以对所述样品进行分析，或不可以对所述样品进行分析。 | ||
| 搜索关键词： | 质谱仪 等离子体 清洁 | ||
【主权项】：
操作质谱(MS)系统的方法，所述方法包括：在分析模式通过如下进行操作所述MS系统：将样品引入到所述MS系统中，从所述样本产生分析物离子，并且从所述分析物离子生成分析数据；在所述分析模式与清洁模式操作所述MS系统之间进行切换；和在所述清洁模式期间：通过操作所述MS系统的等离子体源生成等离子体；和使所述MS系统的内表面与所述等离子体接触以清洁所述内表面。
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