[发明专利]抛光液及其使用方法在审
申请号: | 201580041935.7 | 申请日: | 2015-07-31 |
公开(公告)号: | CN106574147A | 公开(公告)日: | 2017-04-19 |
发明(设计)人: | J·J·加利亚尔迪;E·C·科德;E·L·施瓦兹 | 申请(专利权)人: | 3M创新有限公司 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02;C09G1/04;C09K3/14 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所11256 | 代理人: | 陈长会,黄海波 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种抛光液,该抛光液包含流体组分和多个调理颗粒。流体组分包括水、碱性pH调节剂和聚合物增稠剂。聚合物增稠剂以基于抛光液的总重量计大于0.01重量%存在于流体组分中。 | ||
搜索关键词: | 抛光 及其 使用方法 | ||
【主权项】:
一种抛光液,包含:流体组分,所述流体组分包括:水;碱性pH调节剂;和聚合物增稠剂,其中所述聚合物增稠剂以基于所述抛光液的总重量计大于0.01重量%存在于所述流体组分中;和分散于所述流体组分中的多个调理颗粒。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于3M创新有限公司,未经3M创新有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201580041935.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种晶片粘片处理方法和装置
- 下一篇:一种用于半导体镀膜设备水冷块定位的方法