[发明专利]矫正传感器装置有效
| 申请号： | 201580042397.3 | 申请日： | 2015-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN106659433B | 公开（公告）日： | 2020-11-03 |
| 发明（设计）人： | N.P.考利;R.J.戈德曼;R.萨拉斯瓦特 | 申请（专利权）人： | 英特尔公司 |
| 主分类号： | A61B5/103 | 分类号： | A61B5/103;A61B5/107;A43B7/14;A43B17/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 徐予红;杜荔南 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开的实施例提供用于矫正装置的技术和配置。在一个实例中，装置可包括矫正装置主体以及空间上设置在矫正装置主体内部的至少两个传感器。第一传感器可响应产生于对矫正装置主体施加机械力的压力而提供第一输出。第二传感器可响应产生于对矫正装置主体施加机械力的挠曲而提供第二输出。该装置还可包括控制单元，其在通信上与传感器耦合，以便接收和处理传感器响应压力和挠曲所提供的输出。可描述和/或要求保护其他实施例。 | ||
| 搜索关键词： | 矫正 传感器 装置 | ||
【主权项】：
一种矫正装置，包括：矫正装置主体；至少两个传感器，在空间上设置在所述矫正装置主体内部，所述至少两个传感器的第一传感器响应产生于对所述矫正装置主体施加机械力的压力而提供第一输出，所述至少两个传感器的第二传感器响应产生于对所述矫正装置主体施加机械力的挠曲而提供第二输出；以及控制单元，在通信上与所述矫正装置主体内部的所述至少两个传感器耦合，以便接收和处理所述至少两个传感器响应产生于对所述矫正装置主体施加机械力的压力和挠曲所提供的所述第一和第二输出。
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